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最新！熱設備の脱炭素・低炭素化技術のご紹介【展示会出展】

PR水素ガスバーナー最新ラインナップや低炭素設備をご紹介！【サーマルテクノ…

【展示会情報】工業炉と関連機器の製品・技術展示会およびセミナー発表と講演会で構成する関西からの情報発信イベント” サーマルテクノロジー2024に出展いたします。日時：2024年10月10日（木）11日（金）10:00 ～ 17:00 会場：グランフロント大阪北館 B2F 【最新！水素ガスバーナーラインナップ】二酸化炭素を排出しない水素燃焼！SHOEIでは実績のある自社製バー...
メーカー・取り扱い企業：株式会社正英製作所本社、東京支店、名古屋営業所、大阪支店、広島支店、九州支店
JASIS2024出展のお知らせ

PRラボ用機器「湿度制御装置」の展示・ミクロン、ナノレベルに対応した中空糸…

弊社が毎年出展をしております、JASIS2024に今年も出展致します。狭い空間の湿度を一定に保つ「湿度制御装置」をはじめ、弊社の主力製品である精密ろ過フィルターの展示を行います。また、新技術説明会の開催を行いますので、お気軽にお立ち寄り下さい。 ◆日時・会場◆ 9月4日（水）～9月6日（金）　10:00〜17:00 幕張メッセ国際展示場最寄駅：ＪＲ京葉線「海浜幕張」駅下...

メーカー・取り扱い企業：株式会社キッツマイクロフィルター東京営業所
LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…

ポリッシュ後の研磨スラリーをディスクスクラブ洗浄で除去し、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥できる枚葉洗浄装置です。強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時のスクラブ洗浄も対応できます。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
300ｍｍカセットレス洗浄装置

ファイナルポリッシュ後の化学研磨工程で使用　／　50枚を一括処理　／　…

＜装置概要＞本装置はファイナルポリッシュ後の化学研磨工程で使用する装置です。特徴は25枚のWfの隙間に25枚を入れハーフピッチにし50枚を一括処理します。19nμm／5個の高清浄度を達成しています。...
メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
Siナゲット洗浄装置

Siナゲット洗浄装置　専用バスケットで自動搬送　化学研磨・酸切・高品位…

本装置は、Siナゲットの洗浄を目的とした装置です。ワーク（Siナゲット）の入ったコンテナは本装置で専用の洗浄バスケットに移し替えられ、洗浄設備内に自動搬送されます。その後、バスケットは化学研磨・酸切・...
メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
精密部品洗浄装置（脱脂）

HDD用モーター部品（HUB・ケース等）の脱脂洗浄装置　構成例：洗剤＋…

本装置はHDD用モーター部品（HUB・ケース等）を脱脂洗浄する装置です。構成：洗剤＋US（脱脂洗浄）→純水リンス＋US→温風乾燥→真空乾燥　用途に合わせ製作致します...
メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
高圧パルスジェット DP-Gun　マスク・ガラス・ウェハー洗浄に

同じ圧力なら水の使用量が1/3、同じ流量なら圧力が3倍、少ない流量で繰…

使用する水の量が少なく水膜のできにくい既存装置にも後付可能な洗浄ノズルユニット最大30Hzで駆動する洗浄ノズル 5〜10MPaの高圧水を発生させるポンプコントロールユニットの組合せ従来の連続スプレーは、自ら作った水膜の上からスプレーで...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機

シングルチャンバーで各種洗浄からスピン乾燥まで完結。省スペース設計で研…

ブラシ等の接触洗浄など、様々な組み合わせが可能な洗浄機です。 1つのチャンバーで洗浄からスピン乾燥まで完結し、省スペース設計のため、設置スペースとコストの削減に貢献します。各種装置構成、薬液構成、目的とする洗浄性能やご予算など、ニーズに応じて最適な装置構成をご提案可能です。【特長】 ■各種洗浄方法・薬液を組み合わせ可能 ■研究開発用途や小～中規模の現場に対応 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（量産型）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
小径ウェハ（LT・SiC等2〜6インチ）両面同時スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置！独自機構の表…

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
高圧断続スプレー「DP-Gun」

各種マスクやガラス、ウェハー研磨後の洗浄に！1秒間に30回のノズル開閉…

使用する水の量が少なく水膜のできにくい既存装置にも後付可能な洗浄ノズルユニット最大30Hzで駆動する洗浄ノズル 5〜10MPaの高圧水を発生させるポンプコントロールユニットの組合せ従来の連続スプレーは、自ら作った水膜の上からスプレーで...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）