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    クリーンルームで製造対応しています。

    PRクラス10,000以下のクリーンルームでプラスチック成形~組立~検査~…

    当社ではゴミ・異物等を低減するために製造環境をクリンルーム化しています。 お客様の外観基準に応じて製造環境はクラス10,000以下、 クラス100,000以下またどうしても段ボール等の持込が必要な場合のみ 一般環境下で製造。 クラス10,000以下の製造現場の中にはダスト以外に菌の管理も 実施している部屋もあります。 【特長/メリット】 ■製造環境はクラス10,000以下、クラス100,00...

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    メーカー・取り扱い企業: 協和精工株式会社

  • 『紫外線洗浄・改質ガイド』※仕組、評価方法、アプリケーション例も 製品画像

    『紫外線洗浄・改質ガイド』※仕組、評価方法、アプリケーション例も

    PR電子部品製造等における洗浄工程の改善ヒントに!初心者にもわかりやすく解…

    「紫外線による洗浄・改質技術」は、電子部品、半導体、光学製品などの 製造プロセスで幅広く活用され、ガラス、樹脂、金属などの各種素材に 密着度や親水性の向上、濡れ性改善などの様々な効果を生み出す技術です。 【紫外線洗浄改質の特徴】 ・大気中での処理が可能なドライプロセス ・製品表面へのダメージが極めて少ない(材料・条件による) ・様々な形状や大きさの製品に対応可能 『紫外線洗浄...

    • リーフレット 洗浄と改質rev1.png

    メーカー・取り扱い企業: 千代田交易株式会社

  • 【分析事例】クリーンルーム内有機化合物の評価方法 製品画像

    【分析事例】クリーンルーム内有機化合物の評価方法

    GC/MS:ガスクロマトグラフィー質量分析法

    半導体や液晶などの製造が行われているクリーンルームでは、パーティクルだけでなく分子レベルの化学汚染(分子状汚染)を把握することが重要です。浮遊分子状汚染物質としては酸・塩基性ガスや凝集性有機物質、ドーパント、金属などが挙...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【分析事例】XPSによる単結晶Si表面のダメージ評価 製品画像

    【分析事例】XPSによる単結晶Si表面のダメージ評価

    高分解能測定と波形解析を利用してc-Siとa-Siの状態別定量が可能

    半導体の製造工程において表面改質を目的としたイオン照射を行うことがあります。その中で、単結晶Si表面に不活性元素のイオンを照射することで構造の損傷が生じ、アモルファス層が形成されることが知られています。 高分...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

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