【シロキサンフリー】半導体チップ搬送ケース『ゲルベースVタイプ』

PR半導体チップや精密デバイスなどを振動から守り 安全に保管・搬送！シロキ…

★電子機器トータルソリューション展に出展します★ JPCA Show 2024 2024/4/24(水)～26(金) 10:00-17:00 パシフィコ横浜　展示ホール 小間番号：6H-10 ゲルベースは半導体チップや精密デバイスなど細かな部品の工場内、工程内搬送、海外搬送用として使用できます。 搬送時は振動から精密部品を守り、また半導体等部品のデバイス固定用としても大活躍。 粘...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エクシール 本社

搬送ローラシステム『ムーバーズ アポロ』

PR75,000kgの重量物もフォークリフト不要で安全かつ迅速に移動。小さ…

『ムーバーズ アポロ』は、パワフルな油圧トラクションと 独自のエラスティックホイールを組み合わせることで、 75,000kgまでの重量物を安全かつ迅速に移動させられる搬送ローラシステムです。 搬送床面の障害を効果的に克服し、小さなスロープやゲートレール、 グレーチングなどの一般的な障害物をフォークリフトなしで乗り越えることが可能。 搬送重量や用途に合わせて簡単に部品を選択・組み合...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダイナテック 本社

加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱プロ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

RTA装置

トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応できる 製品です。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。 【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社