• Enovasense Field Sensor 製品画像

    Enovasense Field Sensor

    PR高速な不透明膜の厚みマッピング、内部欠陥のエリア検出が可能なレーザーフ…

    フランスのEnovasense社のセンサは、レーザフォトサーマル技術を使用した 高性能なセンサで、非接触で不透明体の厚みを測定できます。 本新製品は、従来のシングルポイントセンサと異なり、約11万点を同時に測定できるエリアセンサです。 不透明体の厚みマッピングだけでなく、表面層下の欠陥、欠け、剥がれの有無を検知できます。 ■特長  ・非接触で下記が測定できます。    ☆不透明体の厚みマッピング...

    メーカー・取り扱い企業: プレシテック・ジャパン株式会社

  • 『包装機器逆引きカタログ』<資料進呈> 製品画像

    『包装機器逆引きカタログ』<資料進呈>

    PR冷凍食品、お菓子、きのこ類、金属小物など包装物から適切な包装機器が探せ…

    当社は、包装機の設計・製造・販売で豊富な実績があります。 多数の機器を揃え、包装対象物は麺類や野菜、菓子など食品全般をはじめ、 ねじ、釘、ボルト、ベアリングといった金属部品など多岐にわたります。 ピラミッド型に仕上げるテトラ袋など、対応可能な包装形態も多様です。 本資料『包装機器逆引きカタログ』は、包装物から適切な包装機器が選択可能。 ダウンロードボタンよりすぐにご覧いただけます。 現場に応じた...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社トーヨーパッケン

  • 有機金属気相成長法による結晶成長シミュレータ 製品画像

    有機金属気相成長法による結晶成長シミュレータ

    化合物半導体の有機金属気相成長法の数値シミュレーション解析ツール

    有機金属気相成長法(MOCVD)のプロセスシミュレーターPROCOM(プロコム)の事例を紹介。PROCOMは、流体力学(fluid dynamics)や質量(mass transport)および熱輸送(he...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 半導体デバイス用汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトAPSYS 製品画像

    半導体デバイス用汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトAPSYS

    多種多様な材料や物理モデルを用意、様々な解析が可能な半導体デバイスシミ…

    , AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ■絶縁体 (air(空気), vacuum(真空), TiO2, AlA...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 半導体プロセス&デバイスシミュレータ「NovaTCAD」 製品画像

    半導体プロセス&デバイスシミュレータ「NovaTCAD」

    2D/3Dのプロセスシミュレータとデバイスシミュレータを統合したクロス…

    , AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ■絶縁体 (air(空気), vacuum(真空), TiO2, AlA...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター PICS3D 製品画像

    半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター PICS3D

    新たにクロスライト社のFDFDが加わり、FDTDより計算がかなり速く高…

    , AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ■絶縁体 (air(空気), vacuum(真空), TiO2, AlA...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • pドーピング窒化系シミュレータ 製品画像

    pドーピング窒化系シミュレータ

    GaNおよびIII族窒化物にpドーピングを行うプロセス解析ツール

    有機金属気相成長法(MOCVD)のプロセスシミュレーターPROCOMシミュレーションでp-タイプ伝導率の問題に取組む。膜成長中のMg取込みをコントロールするのが重要。シミュレーションは複雑なドーピングプロセ...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • PICS3D(Fabry-Perot Edition)     製品画像

    PICS3D(Fabry-Perot Edition)

    2次元に特化した半導体レーザ向けデバイスシミュレーションプログラム(旧…

    , AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ■絶縁体 (air(空気), vacuum(真空), TiO2, AlA...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 【動画】半導体デバイス用2D/3D解析・設計ソフトAPSYS 製品画像

    【動画】半導体デバイス用2D/3D解析・設計ソフトAPSYS

    多種多様な材料や物理モデルを用意、様々な解析が可能な半導体デバイスシミ…

    , AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ■絶縁体 (air(空気), vacuum(真空), TiO2, AlA...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 【動画】半導体レーザ用3Dデバイスシミュレーター PICS3D 製品画像

    【動画】半導体レーザ用3Dデバイスシミュレーター PICS3D

    モード、光学利得、光強度、スペクトル、キャリア分布、バンド、波動関数な…

    , AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ■絶縁体 (air(空気), vacuum(真空), TiO2, AlA...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 【動画】半導体プロセス&デバイスシミュレータ「NovaTCAD」 製品画像

    【動画】半導体プロセス&デバイスシミュレータ「NovaTCAD」

    2D/3Dのプロセスシミュレータとデバイスシミュレータを統合したクロス…

    , AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ■絶縁体 (air(空気), vacuum(真空), TiO2, AlA...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • 【動画】PICS3D(Fabry-Perot Edition)  製品画像

    【動画】PICS3D(Fabry-Perot Edition)

    2次元に特化した半導体レーザ向けデバイスシミュレーションプログラム(旧…

    , AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ■絶縁体 (air(空気), vacuum(真空), TiO2, AlA...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

1〜10 件 / 全 10 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • ipros_bana_提出.jpg
  • 修正デザイン2_355337.png

PR