材料開発DXを加速! 活用事例紹介ウェビナー開催＜無料＞

PR原子レベルのシミュレーションとマテリアルズ・インフォマティクス活用で材…

半導体や電子部品から日用品に至るまで、様々な材料開発において、原子･分子レベルでの設計が求められています。 シュレーディンガーの『Materials Science Suite』は、各種の原子・分子レベルのシミュレーションおよび機械学習により、材料開発を大幅に加速するソフトウェア・プラットフォームです。 さらに、データ駆動型アイデア創出プラットフォーム『LiveDesign』は、計算技術を活用...

メーカー・取り扱い企業： シュレーディンガー株式会社

電子機器の受託開発・設計（ハードウェア、FPGA、ソフトウェア）

PR画像技研は、幅広くお客様の開発をお手伝いします。（一貫した開発から部分…

●ハードウェア・ファームウェア・ソフトウェアのすべてにわたって、幅広くお客様の開発をお手伝いします。 ●画像の処理、圧縮、高速伝送、認識などで豊富な経験を持っています。 ●FPGAを使用したハードウェア処理により、高速処理、リアルタイム処理を実現します。...●ハードウェア 仕様書の作成から回路図、部品リストの作成、基板アートワーク、生基板作成、部品手配、実装、評価、調整までお引き受けします...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社画像技研

粒子用 ALD （原子層堆積）装置 / FORGE NANO社

粒子専用のALD（原子層堆積 Atomic Layer Deposit…

研究開発向け粒子用ALD（原子層堆積）装置で様々な開発用途に活用できます。ナノスケールの粒子の成膜をミリグラムからキロまでプロセス可能です。　 ■流動床を含めた手法により膜厚を均一にコントロール ■３種...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

ボタン型・コイン型・リチウムイオン２次電池

特許技術により同体積比、世界最高レベルの大容量！小型デバイスで多数の実…

比世界最高レベルの大容量です。全モデルRohs対応で、全モデルSBA G1101・UL1642安全規格合格です。多機能ウォッチ、MP3プレーヤー等、小型デバイスで多くの実績があります。小径電池の新規開発の対応も可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

ホロカソードエッジング方式アークイオンプレーティングシステム

TiN, CrN, TiAlN等での表面改質に最適！

特徴 ●TiN, CrN, TiAlN等での表面改質に最適 ●ワンチャンバーにホロカソードガン、アークイオンガン、スパッタガンの3ソースを搭載し、独立成膜可能。研究開発用途に最適。 ●ホロカソードでの強エッジングにより界面密着力を強制的に向上させ、アークイオンもしくはスパッタで精密成膜。 ●　９０　％以上のイオン化率　 ●　高エネルギーのイオン蒸着 at ア...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

膜厚調整トリミング装置

独自に開発したイオンソースを使用し、優れた膜厚均一性を達成します。

原理：DCベースイオンミリング 特徴： シンプルで頑丈な構造 素早い反応時間（切削量に応じて） ０エッチング可能 DCベースソース（グリッドレス、フィラメントレス）でシンプルなメンテナンス 適用例: SAWフィルターの温度補償層（SiO2）の膜厚調整、LTO,AlN膜等の膜厚調整 AlN, LTO等圧電膜の膜厚、周波数調整 その他導電体、非導電体膜の膜...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー