• 高圧ジェットで高速レジスト剥離!半導体製造用リフトオフ装置 製品画像

    高圧ジェットで高速レジスト剥離!半導体製造用リフトオフ装置

    PR【超高圧ジェットでメタル&レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

    【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし! ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム (オプション) 超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能! 昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • 4K/60fpsデジタルマイクロスコープ TAGARNOT50  製品画像

    4K/60fpsデジタルマイクロスコープ TAGARNOT50 

    PR4K画質・60fpsカメラ搭載のデジタルマイクロスコープ! 全自動カメ…

    4K /60fpsデジタルマイクロスコープ TAGARNO T50は、全自動でカメラヘッドの高さ調節を行い、且つオートフォーカス機能も搭載しています。 1.3倍~660倍までの拡大観察が可能で、ワンタッチで画像の保存が可能です。画像は接続したUSBメモリー又は内蔵メモリーに保存され、いつでもファイル名で呼び出し可能です。又オンライン会議アプリを使用して現在観察しているライブ画像を、遠方の関係...

    メーカー・取り扱い企業: ゲルハルトジャパン株式会社

  • 【パワー半導体・PCBフラックス洗浄剤】VIGON PE 180 製品画像

    【パワー半導体・PCBフラックス洗浄剤】VIGON PE 180

    パワーエレクトロニクス・プリント基板向け!銅表面の酸化膜除去にも優れま…

    『VIGON PE 180』は、スプレー装置用にてパワーエレクトロニクスや プリント基板のフラックス除去用として開発された中性の水系洗浄剤です。 フラックスを確実に除去し、材料適合性に優れた製品。 リードフレーム、ディスクリート部品、パワーモジュール、 パワーLED、プリント基板などのフラッ...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【メタルマスク向け水系洗浄剤】VIGON TC 150 製品画像

    【メタルマスク向け水系洗浄剤】VIGON TC 150

    導電性ペースト用水系洗浄剤、メタルマスクやスクリーン版からの銀シンター…

    当社で取り扱う、導電性ペースト用水系洗浄剤『VIGON TC 150』 をご紹介します。 メタルマスクやスクリーン版から、シリコン系やシリコンフリー、 銀・アルミニウムの導電性ペーストを除去するために 専用設計された製品。 銀シンターペーストの除去にもお使いいただけます。 【特長】 ■導電性ペーストに対し洗浄性が優れる ■メタルマスクやスクリーン版からの銀シンターペー...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【ディスペンサーノズル洗浄剤】ZESTRON HC 製品画像

    【ディスペンサーノズル洗浄剤】ZESTRON HC

    SMTボンド除去用、着脱可能なディスペンサーノズルであれば、簡単に洗浄…

    『ZESTRON HC』は、ディスペンサーノズルなどの治具からSMT ボンド 除去用として開発された改良アルコール系洗浄剤です。 マウンターノズルのはんだ粒子やダスト除去にも使用可能。 手拭き洗浄にて手軽にご使用いただけるようエアゾール缶で ご提供しております。 ...

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    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • パワー半導体・プリント基板向け洗浄剤/VIGON PE 194A 製品画像

    パワー半導体・プリント基板向け洗浄剤/VIGON PE 194A

    弱アルカリ性フラックス洗浄剤、リンス性に優れ泡立ちせず、スプレーや浸漬…

    VIGON PE 194A』は、スプレー・浸漬装置用に専用設計された 水系弱アルカリ性洗浄剤です。 感作性が高い金属、特にダイとの材料適合性に非常に優れており、 さらに短時間での銅の酸化膜除去が可能。 MPCテクノロジーを基にパワー半導体やリードフレーム、 ディスクリート部品、パワーLED、プリント基板から フラックス残渣を確実に除去します。 【特長】 ■パワー半導体や...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【パワー半導体向けフラックス洗浄剤】VIGON PE 215N 製品画像

    【パワー半導体向けフラックス洗浄剤】VIGON PE 215N

    効果的なリンスにより、銅基板の再酸化を防ぐ!活性化された銅基板を長期間…

    『VIGON PE 215N』は、スプレー洗浄装置用として専用設計された 中性の水系洗浄剤です。 MPCテクノロジーにより、パワーエレクトロニクス部品から フラックス残渣を確実に除去することができ、特にダイアタッチ後や ヒートシンクはんだ付け後のパワーモジュールの洗浄に好適。 また、材料適合性と銅酸化膜除去に優れており、次工程の ワイヤボンディング/接着ボンディングやモールデ...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【水系フラックス洗浄剤】ATRON AC 205 製品画像

    【水系フラックス洗浄剤】ATRON AC 205

    粘着性フラックスを除去することで、ボイドのないアンダーフィルに!画像解…

    『ATRON AC 205』は、基板からフラックス残渣を除去するため 設計されたFASTテクノロジー系の洗浄剤です。 当製品はより短い処理時間かつ長寿命。 特に短い処理時間が要求される高圧インライン洗浄装置に好適。 また、パワーLEDやフリッ...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【水系フラックス洗浄剤】VIGON N 640 製品画像

    【水系フラックス洗浄剤】VIGON N 640

    浸漬洗浄での使用も適した製品!リンス回数を減らすことができます

    『VIGON N 640』は、プリント基板のフラックス除去のために専用設計 された中性洗浄剤です。 バッチ式スプレー洗浄機での使用に好適。一般に除去するのが難しい 先進のクリーム半田やフラックスに対して優れた洗浄性があります。 また、銅やニ...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【半導体向けフラックス洗浄剤】HYDRON SE 230A 製品画像

    【半導体向けフラックス洗浄剤】HYDRON SE 230A

    表面張力が低いことが特長!狭い場所にも良好な洗浄結果をもたらします

    タイプ水系洗浄剤です。 リードフレームやディスクリート部品、パワーモジュール、 パワーLED、フリップチップやCMOSといった各種半導体から ダイアタッチ時に発生するフラックス残渣を確実に除去。 また、ワイヤボンディングやモールディングなど後工程での 銅基板の酸化膜除去にも優れています。 【特長】 ■銅基板をシミなく活性化、活性化された表面を一定期間保持させる ■感作性...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【メタルマスク向け洗浄剤】ZESTRON SD 301 製品画像

    【メタルマスク向け洗浄剤】ZESTRON SD 301

    高いコンタミ保持能力のため、長寿命で洗浄コストを削減!

    『ZESTRON SD 301』は、メタルマスクやスクリーンから防爆仕様の スプレー洗浄機によるクリーム半田・SMT 接着剤・厚膜ペースト除去用 の溶剤系洗浄剤です。 速乾性があり、洗浄工程の短縮ができます。また、印刷ミス基板の 洗浄にも効果的です。 高引火点のため手拭き洗浄や印刷機での裏拭きにも使用可能です。 【特...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【パワー半導体・プリント基板洗浄剤】VIGON PE 190A 製品画像

    【パワー半導体・プリント基板洗浄剤】VIGON PE 190A

    引火点を持たないため防爆設備を必要としない!様々なタイプのスプレー装置…

    た水系アルカリ性洗浄剤です。 MPCテクノロジーを基にリードフレームやディスクリート部品、 パワーモジュール、パワーLED、プリント基板、特に低スタンド部品 下部からフラックス残渣を確実に除去。 また、ひどく酸化したり汚れの強い銅表面に対し優れた効果を発揮し、 ワイヤボンディング、接着ボンディングやモールディングなどの 後工程において材料適合性が優れています。 【特長】 ...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【水系フラックス洗浄剤】ATRON AC 207 製品画像

    【水系フラックス洗浄剤】ATRON AC 207

    インラインまたはバッチ式洗浄装置にて高中水圧で使用可能!

    ミ、真鍮、ニッケル等 のような感作性が高い金属に対し優れた材料適合性を示します。 【特長】 ■低濃度・低温でも優れた洗浄性を発揮 ■幅広い種類における先進鉛フリー・共晶フラックスの素早い除去が可能 ■マイルドな組成によりはんだ付け部及びパッドの光沢を保つ ■粘着性フラックスを除去し、ボイドのないアンダーフィルを保つ ■パワーモジュールのワイヤボンディング品質が向上 ■長寿命かつ...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【半導体向け中性フラックス洗浄剤】HYDRON SE 220 製品画像

    【半導体向け中性フラックス洗浄剤】HYDRON SE 220

    中性のため、材料適合性にも優れる!ダイアタッチ時などに発生するフラック…

    浄剤です。 リードフレーム、ディスクリート部品、パワーモジュール、パワーLED、 フリップチップやCMOS といった各種の半導体パッケージから ダイアタッチ時などに発生するフラックス残渣を除去。 一相構造のため、非常に優れた工程管理性と良好なリンス性を示し、 ワイヤボンディングやモールディングなどの後工程を好適な表面状態 に仕上げることができます。 【特長】 ■浸漬工程...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【水系フラックス洗浄剤】VIGON A 201 製品画像

    【水系フラックス洗浄剤】VIGON A 201

    高いコンタミ許容量!長い液寿命、低いメンテナンスコスト、洗浄部品あたり…

    ンドオフ部品下部など微細空間において スプレー洗浄で優れた性能を発揮するフラックス洗浄剤です。 低濃度で使用し、MPCベース洗浄剤である当製品は共晶・鉛フリー 無洗浄はんだのフラックス残渣除去に特に好適。 洗浄後に添加物なしで光沢のあるはんだ接合面を保ちます。 また、フリップチップおよびCMOSから粘着性フラックスを 除去するのに適しています。 【特長】 ■低スタンドオ...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【基板洗浄を検討する上でのステップを解説】基板洗浄とは? 製品画像

    【基板洗浄を検討する上でのステップを解説】基板洗浄とは?

    高信頼性を確保するためには、洗浄は必須!検討ポイントなどを解説

    当コラムでは、基板洗浄を検討する上でのステップをご案内いたします。 基板洗浄とは、基板からフラックス残渣や樹脂、その他生産工程中に 発生する残渣を除去することです。 日本では、無洗浄ペーストを採用しているケースが多いですが、 高信頼性を確保するためには、洗浄は必須となってきています。 続きは関連リンクからご覧ください。 ※コラ...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【メタルマスク向け水系洗浄剤】VIGON SC 210 製品画像

    【メタルマスク向け水系洗浄剤】VIGON SC 210

    VOC値が20%を大幅に下回る!引火点がないため防爆設備なしでご利用可…

    0』は、メタルマスクやSMT ボンドの洗浄用途として 専用設計された水系洗浄剤です。 MPCテクノロジーに基づき、18℃という低温度であっても クリーム半田・SMT ボンドを一工程で確実に除去することが可能。 フラックスの種類によっては、印刷ミス基板の洗浄にも使用できます。 さらに、治具(特にディスペンサーノズル)からも接着剤を取り除く ことができ、スプレー洗浄及び超音波洗浄用...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

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