高圧ジェットで高速レジスト剥離！半導体製造用リフトオフ装置

PR【超高圧ジェットでメタル＆レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし！ ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム （オプション） 超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能！ 昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

組込用小型高圧ポンプ　FSBL-50

PR電気を使用しないエア駆動式。防火・防爆地区に適応します。 発売以来8年…

『FSBL-50』は純水、IPA、NMPなどの流体を高圧に送り出して、 ウエハーなどの洗浄対象に噴射して膜を除去する目的の装置に組み込まれるポンプです。 接液部の材質はSUS316、逆止弁は新開発のポペット弁により長寿命で金属粉の発生がありません。 また、昇圧部のシール材はフッ素系高分子ポリエチレンを標準採用、NMPなど有機溶剤系仕様としてカルレッツも対応可です。 【特長】 ■コ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

UV洗浄表面改質装置　ASM1101N

110Wの高出力UV洗浄をお手元で手軽に。

UV(紫外線)表面処理技術の用途例 -洗浄と改質- ・パネル・ディスプレイ 製品　フラットパネル、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機EL 用途・効果 ガラス表面の有機系皮膜の除去、ITOと絶縁膜との密着度向上、ガラスとITOの密着向上、各種塗布膜の親水化 ・光学部品 製品　ピックアップレンズ、センサー、半導体製造用レンズ、水晶振動子 用途・効果 レンズ表面の有機系...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研

小型オゾン分解装置『ASM501』

独自設計による高性能ハニカム触媒を使用し短納期を実現！不燃タイプで安心…

株式会社あすみ技研が取り扱う、小型オゾン分解装置『ASM501』をご紹介します。 紫外線照射装置やエキシマ洗浄装置、プラズマ洗浄装置の使用時に発生する オゾンの分解装置をスタンドアローンで低価格を実現。 高濃度オゾン除去用に開発されたハニカムオゾンフィルターを採用しており、 本装置一台でオゾンを分解でき、排気ダクトへの接続など面倒な作業が不要です。 【特長】 ■分解率を向上...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研

小型オゾン分解装置

紫外線照射装置やエキシマ洗浄装置、プラズマ洗浄装置の使用時に発生するオ…

・本装置一台でオゾンを分解でき、排気ダクトへの接続など面倒な作業が不要。 ・高濃度オゾン除去用に開発されたハニカムオゾンフィルターを採用。 ・分解率を向上させた反応型触媒タイプのため、劣化が少なく、寿命の長いフィルターです。 ・不燃タイプですので、安心してご使用頂けます。 ・コンパクトで、設置場所に困りません。 ・独自設計による高性能ハニカム触媒を使用し、短納期を実現しました。 ......

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研