高圧ジェットで高速レジスト剥離！半導体製造用リフトオフ装置

PR【超高圧ジェットでメタル＆レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし！ ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム （オプション） 超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能！ 昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

『蒸気2流体洗浄装置 ハンディガンタイプ』

PR30μm以下の水滴と蒸気の超音速噴射で、切削油など頑固な汚れもしっかり…

『蒸気2流体洗浄装置 ハンディガンタイプ』は、水滴と蒸気を超音速で 噴射することで発生する衝撃波（キャビテーション）と せん断力により異物、汚れを除去する装置です。 電気、純水、圧縮空気（or窒素）で動作が可能。 ハンディガンタイプのため汚れを的確に除去できるほか、 装置はキャスター付きで容易に移動できます。 【特長】 ■キャビテーションの効果を利用して汚れを除去 ■薬品を...

メーカー・取り扱い企業： HUGパワー株式会社

UV洗浄表面改質装置　ASM1101N

110Wの高出力UV洗浄をお手元で手軽に。

UV(紫外線)表面処理技術の用途例 -洗浄と改質- ・パネル・ディスプレイ 製品　フラットパネル、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機EL 用途・効果 ガラス表面の有機系皮膜の除去、ITOと絶縁膜との密着度向上、ガラスとITOの密着向上、各種塗布膜の親水化 ・光学部品 製品　ピックアップレンズ、センサー、半導体製造用レンズ、水晶振動子 用途・効果 レンズ表面の有機系...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研

小型オゾン分解装置『ASM501』

独自設計による高性能ハニカム触媒を使用し短納期を実現！不燃タイプで安心…

株式会社あすみ技研が取り扱う、小型オゾン分解装置『ASM501』をご紹介します。 紫外線照射装置やエキシマ洗浄装置、プラズマ洗浄装置の使用時に発生する オゾンの分解装置をスタンドアローンで低価格を実現。 高濃度オゾン除去用に開発されたハニカムオゾンフィルターを採用しており、 本装置一台でオゾンを分解でき、排気ダクトへの接続など面倒な作業が不要です。 【特長】 ■分解率を向上...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研

小型オゾン分解装置

紫外線照射装置やエキシマ洗浄装置、プラズマ洗浄装置の使用時に発生するオ…

・本装置一台でオゾンを分解でき、排気ダクトへの接続など面倒な作業が不要。 ・高濃度オゾン除去用に開発されたハニカムオゾンフィルターを採用。 ・分解率を向上させた反応型触媒タイプのため、劣化が少なく、寿命の長いフィルターです。 ・不燃タイプですので、安心してご使用頂けます。 ・コンパクトで、設置場所に困りません。 ・独自設計による高性能ハニカム触媒を使用し、短納期を実現しました。 ......

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研