高圧ジェットで高速レジスト剥離！半導体製造用リフトオフ装置

PR【超高圧ジェットでメタル＆レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし！ ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム （オプション） 超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能！ 昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

「廃プラスチックリサイクル用 押出成形設備」

PR混合廃プラスチックも再商品化が可能。不純物除去・搬送・射出・プレスなど…

『1ステップ1ステーション 廃プラスチックリサイクル押出成形設備』は、 供給・不純物除去・搬送・射出・プレスなどを行う複数の装置で構成された、 軟質・硬質廃プラスチックを使って様々なプラスチック製品を製造できる設備です。 複数の材料が混ざった「混合廃プラスチック」をもとにした再商品化も可能。 低価格で設備を導入でき、廃棄物処理コストやCO2排出量の削減に活用できます。 【要件・仕...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社太和ホールディング

【パレット・フラックス回収装置洗浄剤】ATRON SP 200

引火点がなく安全、低VOCで環境に良い！液寿命が長く、洗浄性が安定した…

ATRON SP 200は水系のアルカリ界面活性剤系洗浄剤で、パレットやフラックス回収装置向けに焼き付いたフラックス除去用として開発されたものです。 メタルマスクからクリーム半田を除去することも可能です。 スプレー、超音波、エアーバブリング装置などの使用に適しています。 【特長】 ■パレット・リフロー炉部品などの固着したフラックス洗浄に最適 ■液の長寿命化によるコスト・入替の手間など...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【メタルマスク向け水系洗浄剤】VIGON SC 200

クリーム半田やSMTボンドを確実に洗浄。印刷機の裏拭き用としても使用可…

VIGON SC 200はメタルマスク洗浄用として開発された常温タイプの水系洗浄剤です。 スプレー式や超音波式洗浄機に適しており、試し刷り基板の洗浄もできます。 フラックスのタイプによっては、片面が既にはんだ付けされている印刷ミス基板にも使用できます。 【特長】 ■フラックスを洗浄液中から分離除去できるため、洗浄液の長寿命化及びコスト低減 ■洗浄液の交換が不要のため、メンテナンスの省...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

パワー半導体・プリント基板向け洗浄剤／VIGON PE 194A

弱アルカリ性フラックス洗浄剤、リンス性に優れ泡立ちせず、スプレーや浸漬…

『VIGON PE 194A』は、スプレー・浸漬装置用に専用設計された 水系弱アルカリ性洗浄剤です。 感作性が高い金属、特にダイとの材料適合性に非常に優れており、 さらに短時間での銅の酸化膜除去が可能。 MPCテクノロジーを基にパワー半導体やリードフレーム、 ディスクリート部品、パワーLED、プリント基板から フラックス残渣を確実に除去します。 【特長】 ■パワー半導体...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【浸漬洗浄向け 水系アルカリ性フラックス洗浄剤】VIGON US

超音波・噴流装置向け水系フラックス洗浄剤。優れた洗浄性・環境対応型！

VIGON US は、特に超音波や噴流、遠心分離洗浄装置向けの水系洗浄剤です。 電子基板やフリップチップ、CMOSからのすべてのタイプのフラックス残渣を除去します。 【特長】 ■超音波・噴流で優れたフラックス洗浄性能 ■水系のため低VOCで環境対応 ■フリップチップ・BGA洗浄に実績あり ■フラックス分離除去性能のため洗浄液の長寿命化 ■引火点なし、高い作業安全性 ※詳しく...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【パワー半導体・PCBフラックス洗浄剤】VIGON PE 180

パワーエレクトロニクス・プリント基板向け！銅表面の酸化膜除去にも優れま…

『VIGON PE 180』は、スプレー装置用にてパワーエレクトロニクスや プリント基板のフラックス除去用として開発された中性の水系洗浄剤です。 フラックスを確実に除去し、材料適合性に優れた製品。 リードフレーム、ディスクリート部品、パワーモジュール、 パワーLED、プリント基板などのフラックス除去として用いられます。 また次工程のワイヤボンディング/接着ボンディングやモールディ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【メタルマスク向け水系洗浄剤】VIGON TC 150

導電性ペースト用水系洗浄剤、メタルマスクやスクリーン版からの銀シンター…

当社で取り扱う、導電性ペースト用水系洗浄剤『VIGON TC 150』 をご紹介します。 メタルマスクやスクリーン版から、シリコン系やシリコンフリー、 銀・アルミニウムの導電性ペーストを除去するために 専用設計された製品。 銀シンターペーストの除去にもお使いいただけます。 【特長】 ■導電性ペーストに対し洗浄性が優れる ■メタルマスクやスクリーン版からの銀シンターペース...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【メタルマスク・印刷ミス基板洗浄剤】VIGON SC 202

クリーム半田やSMTボンドを除去！水系洗浄剤のため引火点がなく、高い安…

VIGON SC 202は、メタルマスク洗浄においてクリーム半田やSMTボンドを確実に除去する水系洗浄剤です。 また、印刷ミス基板の洗浄にも優れています。 スプレー洗浄機及び超音波洗浄機での使用を推奨します。 【特長】 ■樹脂・接着剤・インキ・はんだペースト・フラックス汚れを効果的に除去 ■水系洗浄剤のため引火点がなく防爆仕様不要 ■１液で洗浄・リンス可能 ■界面活性剤非含有 ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【パワー半導体・プリント基板洗浄剤】VIGON PE 190A

引火点を持たないため防爆設備を必要としない！様々なタイプのスプレー装置…

『VIGON PE 190A』は、スプレー装置用に専用設計された水系アルカリ性洗浄剤です。 MPCテクノロジーを基にリードフレームやディスクリート部品、 パワーモジュール、パワーLED、プリント基板、特に低スタンド部品 下部からフラックス残渣を確実に除去。 また、ひどく酸化したり汚れの強い銅表面に対し優れた効果を発揮し、 ワイヤボンディング、接着ボンディングやモールディングなどの...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【パワー半導体向けフラックス洗浄剤】VIGON PE 215N

効果的なリンスにより、銅基板の再酸化を防ぐ！活性化された銅基板を長期間…

『VIGON PE 215N』は、スプレー洗浄装置用として専用設計された 中性の水系洗浄剤です。 MPCテクノロジーにより、パワーエレクトロニクス部品から フラックス残渣を確実に除去することができ、特にダイアタッチ後や ヒートシンクはんだ付け後のパワーモジュールの洗浄に好適。 また、材料適合性と銅酸化膜除去に優れており、次工程の ワイヤボンディング/接着ボンディングやモールディ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【水系フラックス洗浄剤】ATRON AC 205

粘着性フラックスを除去することで、ボイドのないアンダーフィルに！画像解…

『ATRON AC 205』は、基板からフラックス残渣を除去するため 設計されたFASTテクノロジー系の洗浄剤です。 当製品はより短い処理時間かつ長寿命。 特に短い処理時間が要求される高圧インライン洗浄装置に好適。 また、パワーLEDやフリップチップパッケージ、CMOS、 BGAにも効果を発揮します。 【特長】 ■先進の鉛フリー・共晶はんだフラックス残渣などをより素早く除...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【パレット・リフロー炉部材洗浄剤】ATRON SP 300

焼き付いたフラックスを確実に除去！水系のアルカリ性界面活性剤。

ATRON SP 300 は水系のアルカリ性界面活性剤で、特にリフロー炉部材、パレットなどから焼きついたフラックスを除去するために開発されたものです。 外部洗浄ユニットとエアバブリングによるバッチ洗浄システムにご使用いただけます。 【特長】 ■パレット・リフロー炉部品などの固着したフラックス洗浄に好適 ■液の長寿命化によるコスト・入替の手間などの削減、洗浄性能の安定化 ■低揮発性・低...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【水系フラックス洗浄剤】ATRON AC 207

インラインまたはバッチ式洗浄装置にて高中水圧で使用可能！

『ATRON AC 207』は、FASTテクノロジーを基に特に低濃度で処理するため 開発された洗浄剤です。 一般的な界面活性剤系洗浄剤の洗浄性と液寿命を向上させ、 特に感作性が高い金属に対応できるよう開発されました。 マイルドな組成で低濃度仕様のため、当製品はアルミ、真鍮、ニッケル等 のような感作性が高い金属に対し優れた材料適合性を示します。 【特長】 ■低濃度・低温でも...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

ゼストロンジャパン株式会社 製品カタログ

プリント基板のフラックス洗浄などに！多様な水系・溶剤系洗浄剤を取り揃え

当カタログでは、ゼストロンジャパン株式会社の製品ラインアップ をご紹介しております。 「プリント基板洗浄」や「パッケージ・ウェハ洗浄」などの 状況に適した製品例や、アプリケーション、特長を掲載。 各製品テクノロジー&ブランドの解説やラインアップもご紹介 しております。製品選定の際に、是非ご活用ください。 【掲載内容(一部)】 ■洗浄工程導入フロー ■プリント基板洗浄 ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【プリント基板向けフラックス洗浄剤】VIGON A 200

低スタンドオフ部品の洗浄にも好適！防爆仕様なしで浸漬槽に導入可能

『VIGON A 200』は、インラインやバッチ装置のような、高圧・中圧スプレー 装置でご利用いただけるよう専用設計された水系洗浄剤です。 MPC テクノロジーを基に、様々なタイプのフラックス残渣を電子基板、 セラミック基板、パワーモジュール、リードフレームから除去することが可能。 ワイヤボンディングやコーティングなどの次の工程に向け、 高い清浄度要求を満たすことができます。 ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【基板上のフラックス残渣可視化テストキット】Flux Test

残渣を変色させ一目でフラックス残渣が分かる！簡単・安価なフラックス残渣…

ZESTRON Flux Testは呈色反応によってフラックス活性剤中のカルボキシル基を示します。 目視できない残渣を容易に検知することができ、イオンコンタミ測定の重要な補完試験です。 また、コンタミがどのように分布しているかを可視化することができ、部品信頼性評価の改善に繋がります。 【特長】 ■場所を取りません ■投資コストがかかりません ■工場のどこででもご使用できます ■試...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【メタルマスク向け水系洗浄剤】VIGON SC 210

VOC値が20％を大幅に下回る！引火点がないため防爆設備なしでご利用可…

『VIGON SC 210』は、メタルマスクやSMT ボンドの洗浄用途として 専用設計された水系洗浄剤です。 MPCテクノロジーに基づき、18℃という低温度であっても クリーム半田・SMT ボンドを一工程で確実に除去することが可能。 フラックスの種類によっては、印刷ミス基板の洗浄にも使用できます。 さらに、治具(特にディスペンサーノズル)からも接着剤を取り除く ことができ、スプ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【メタルマスク向け水系洗浄剤】HYDRON SC 300

引火点を持たない水系洗浄剤のため、洗浄装置に防爆仕様が不要！

『HYDRON SC 300』は、メタルマスク洗浄用として開発された水系洗浄剤です。 クリーム半田やSMT ボンドを常温にて確実に除去し、 メタルマスク表面上に残渣を残しません。 また、洗浄およびリンス工程にて使用可能で、洗浄剤残渣なく乾燥し、 印刷機の裏拭きにも使用できます。 【特長】 ■クリーム半田や接着剤洗浄に優れた効果を発揮し、残渣を残さない ■洗浄およびリンス工...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社