Enapter社「AEM式水電解水素製造装置」

PRAEM（アニオン交換膜）式水電解を採用。アルカリ水電解・PEM水電解の…

【AEM式水電解水素製造装置　3つの特長】 １．高圧・高純度の水素を生成 　　99.999%純度の水素を3.5MPaGの高圧で生成可能。電極反応はアルカリ 　　水電解と同じですが、腐食性の高い濃アルカリ液を使用しません。セ 　　ル構造はPEM水電解と同様、膜電極接合体構造で高速応答性、広い運 　　転範囲、間欠運転を許容する等の優れた特性を持ちます。 ２．貴金属不要で低コストを実現 　...

メーカー・取り扱い企業： 三國機械工業株式会社

工場用マットスイッチ　工場の危険エリアの立ち入り防止に！

PR１００万回繰り返しても壊れない！確実動作と高耐久性・低価格のマットスイ…

エスケイ電子工業の工場用マットスイッチは、１００万回もの繰り返し運用が可能。特殊コーティングしたアルミ板フィルムにウレタンスポンジを挟み込む独自構造で、高耐久性を低価格で実現しました。 不感部分が少なく、確実な動作も特長です。防水仕様は、耐油と非耐油、２線式および４線式をラインアップ。色、形状、寸法、厚さもカスタマイズ可能です。長年にわたりご利用いただき、約50年間の実績がありますので、安心して...

メーカー・取り扱い企業： エスケイ電子工業株式会社

半導体材料　ＡＬＤ／ＣＶＤ材料

高・強誘電材料、電極材料、配線材料等で多くのオリジナル製品を開発

業界に先駆けて新規ＡＬＤ／ＣＶＤ材料の開発に着手してまいりました。その結果、高・強誘電材料、電極材料、配線材料等で多くのオリジナル製品を開発、国内外のお客様より高い評価を得ております。これらは、合成から一貫してクリーンルーム内で作業が行われ、スピーディーな製品設計が可能であると同時に、試作から...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ADEKA

【資料】アクア プラズマ～画期的な銀電極、銅電極の表面処理技術～

Aqua Plasmaの効果として、ESCAによる表面の深さ分析結果な…

当資料では、アクア プラズマの画期的な銀電極、銅電極の表面処理技術を ご紹介しています。 Aqua Plasmaの効果として、銅サンプル表面の酸化深さをESCAで Arビームエッチングを用いながら組成分析した結果などを掲載。 ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

液体ソースプラズマCVD装置

小型でスペース効率の優れた装置！基板はφ4インチ対応で、加熱機構・T/…

た シリンダーキャビネット付きプラズマCVD装置です。 液体ソースに対応したベーカブルMFC、各種ベーキング機構を備えており、 内部異常放電防止対策や安定プラズマ生成目的の独自のプラズマ電極を 設計開発。 上蓋開閉により基板交換、内部メンテナンスでき、小型でスペース効率の 優れた装置です。 【特長】 ■シリンダーキャビネット付き ■液体ソースに対応したベーカブルMF...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置　DCVD-51A

コンパクトで省電力！デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験用…

【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため 　デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャンバー＋特殊電極により、高効率な運転が可能 ○放電状態を見ながらの実験が可能 ○試料導入はロードロック方式への発展が可能 ○完全なシールド構造により、マイクロ波の漏れ対策は万全 ○全て空冷仕様により、電力と...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

ICPECVD『SI 500 D』

ICPパワーによるイオン密度の制御！低温成膜、低ダメージ、高コンフォマ…

ご相談ください。 【特長】 ■ICPパワーによるイオン密度の制御 ■オプションのバイアスパワーによるイオンエネルギーの制御 ■リアクター圧力、分離されたガス供給ラインとICPソースと基板電極間の 　間隔調整によるプロセスの最適化 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ