• CNT面状発熱体「HEATNEX(ヒートネクス)」 製品画像

    CNT面状発熱体「HEATNEX(ヒートネクス)」

    PR【無料サンプル進呈中】新素材のカーボンナノチューブ(CNT)を塗料化し…

    ニクロム線など金属系素材を使用した面状発熱体とは違い、 全面発熱する素材です。 HEATNEXはCNTを抵抗体として使用しフィルムに印刷することで フレキシブルな発熱素材を実現しました。 透明度の調整により透明に近づけ 光を通す仕様にも対応可能です。 【特長】 ■全面で均一に発熱させることが可能なフレキシブルな発熱素材です。 ■面状発熱の伝熱と遠赤外線の輻射熱により効率的に...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アドバネクス

  • 『熱硬化型焼結銅ペースト』半導体パッケージの高集積化に貢献 製品画像

    『熱硬化型焼結銅ペースト』半導体パッケージの高集積化に貢献

    PR低抵抗・高放熱を実現する銅ペースト。200℃以上の加熱で焼結し、大気硬…

    当社の『熱硬化型焼結銅ペースト』は、半導体パッケージに対し 低抵抗・高放熱といった優れた性能を付与できる樹脂含有型ペーストです。 さらに200℃以上の加熱で焼結するほか、大気硬化も可能です。 半導体パッケージの高集積化などへの対応に必要な特性を備えています。 【特徴】 ■銀ペーストと同等の電気的特性を保持しながら、イオンマイグレーションを低減 ■独自の特殊処方で硬化中の酸化を防ぎ、大気硬化によ...

    • 熱硬化型焼結銅ペースト.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ADEKA

  • 単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置 DCVD-51A 製品画像

    単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置 DCVD-51A

    コンパクトで省電力!デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験用…

    【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため  デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャンバー+特殊電極により、高効率な運転が可能 ○放電状態を見ながらの実験が可能 ○試料導入はロードロック方式への発展が可能 ○完全なシールド構造により、マイクロ波の漏れ対策は万全 ○全て空冷仕様により、電力と...

    メーカー・取り扱い企業: アリオス株式会社

  • 超小型マイクロ波プラズマ源 SMPS-201 製品画像

    超小型マイクロ波プラズマ源 SMPS-201

    超小型マイクロ波プラズマ源 SMPS-201

    ガスラインや排気ラインの途中に取り付けて 使うことを想定して開発された、超小型のマイクロ波励起プラズマ源 【特徴】 ○プラズマ室は、高純度アルミナ製で、放電を目視観測可能 ○無電極放電。新方式のマイクロ波供給方式により高密度プラズマを実現 ○完全シールド構造により、マイクロ波漏洩に対して極めて安全 ○完全空冷式で冷却水は不要 ○各種活性ガスの使用が可能 ○マイクロ波は...

    メーカー・取り扱い企業: アリオス株式会社

  • RFプラズマ源 ERFS-500 製品画像

    RFプラズマ源 ERFS-500

    RFプラズマ源 ERFS-500

    電極放電により 金属コンタミの少ないプロセスが可能なRFプラズマ源 【特徴】 ○光学窓付きにより放電が目視確認できる ○石英製窓により高精度のプラズマ分光等が可能 ○自動マッチング機構によ...

    メーカー・取り扱い企業: アリオス株式会社

  • プラズマ関連製品 RFプラズマ源 ERFS-501 製品画像

    プラズマ関連製品 RFプラズマ源 ERFS-501

    ICPタイプのRF高密度プラズマにより各種原料ガスを処理し、成膜実験、…

    プラズマ室は石英製になっており、また無電極放電により金属コンタミの少ないプロセスが可能です。活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え、かつクリーンな原子・ラジカルビーム等を得ることができます。...

    メーカー・取り扱い企業: アリオス株式会社

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