リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

高精度かつ高強度！『メタルコアシリーズ』

PR高強度・耐食性に加え表面処理性に優れ、加熱処理も可能！

メタルコアは、カッター刃でキズも付かない等、 樹脂コアに優る耐久性によりリユースコア用途としてもその特性を発揮します。 メタルの管材は、元来巻き芯に求められる内外径・肉厚精度を満たすものが少ない中で、 当社のメタルコアは、高い真円度を実現しフィルムの巻シワの発生を抑えることが可能！ ■メタルコアシリーズ（アルミコア）のご紹介 特殊硬化処理を行う事により表面改質が可能！ 通常Hv...

メーカー・取り扱い企業： 三協紙業株式会社

ガス配管

半導体や太陽電池等製造装置用ガス供給装置の設置・製造

半導体向け溶接ガス配管　 その他製品事例・・・ ・高純度ガス供給ユニット製作 ・シリンダーキャビネット製作 ・排気ユニット製作 ・除害ユニット製作 ・クリーン自動溶接配管製作 ・真空配管製作 半導体、液晶、太陽電池等製造装置用ガス供給装置の設置・製造 特殊材料ガス配管工事、その他 など様々な製造を行っております ※詳細は【資料請求】もしくは、会社案内を【カタロ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社湘南テクノ

半導体式マイクロ波電源　5.8GHｚ帯

半導体式マイクロ波電源　5.8GHｚ帯

トロンを使用しない、半導体式マイクロ波電源及び加熱試験装置です。 GNUシリーズとして、周波数2.45GHz帯・5.8GH帯・10GHz帯、出力：〜500W、をラインアップいたしました。 各種電池材料の開発・化学合成・反応・低温焼成・乾燥・プラズマ処理等の実験に最適な装置です。 従来の電熱炉等の外部加熱による加熱より、短時間で実験が可能です。（加熱例：金属粉体 20μ 2g を10秒で20℃...

メーカー・取り扱い企業： 富士電波工機株式会社 第1機器部

固着対策シール

固着対策シール

●半導体、液晶、太陽電池をはじめ多岐の業界で使用されている真空機器のシール材に対し、総合シールメーカーとして長年にわたり培った経験、豊富な材料、独自の最適形状設計を組み合わせ、様々な御要求にお応えし、ソリューションをご提供しております。 ●半導体・液晶製造装置向けには、低発塵性、耐プラズマ性、耐薬品性はもちろんのこと、低固着特性に優れた製品を製造・販売しております。...●半導体、液晶、太陽...

メーカー・取り扱い企業： 三菱電線工業株式会社

原子層堆積（ALD）装置

豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

コンパクトな卓上型ALD。 半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。 プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。 順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...設置面積：48x48cm 基板サイズ： 最大4インチ プレカーサー材料：５系統 方式：ホットウォール...

メーカー・取り扱い企業： ALDジャパン株式会社

真空装置設計・製作からサポートまで短納期でご対応

真空装置の設計・製作から保守作業までお任せを！

各種真空成膜装置の設計・製作を行っております。装置完成後の現地搬入・立ち上げ、稼働後の保守を含めたトータルでのサービスが可能な体制となっております。各種実験補助設備の設計や真空設計の応用に豊富な経験があり、仕様検討の段階よりお手伝いさせて頂きます。また、研究･開発部門からの引合いも多く、ご要望に沿った提案が出来ますので、お気軽にご相談下さい。...【製品】 蒸着膜形成装置 ・各種金属/有機物蒸...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コスモ・サイエンス