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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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電気容量のアップと発熱問題を解決!コンパクトで高効率の冷却用コネクタ
『パワー&冷却用コネクタ』は、産業用コネクタ専門商社である株式会社ソルトンが取り扱っている製品カタログです。 当カタログでは、電源の小型化・高密度化にともなう、電気容量のアップと発熱問題を解決するため、コンパクトで高効率の電気コネクタ(ストーブリエレクトリカルコネクターズ社:旧社名 マルチコンタクト社)と、冷媒ラインに最適な流体カップリング...
メーカー・取り扱い企業: 丸紅エレネクスト株式会社 (旧社名:株式会社ソルトン)
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