リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

『ゴア(R) マイクロウェーブ/RFアセンブリ』

極めて高い柔軟性、優れた電気的安定性！正確で再現性の高い測定

長】 ■最大70GHzで長い距離でも損失が少ない、信頼性の高い信号品質を実現 ■優れた位相と振幅の安定性により、信頼性と再現性の高い電気性能 ■柔軟な構造と小さな曲げ半径により容易な設置が可能 ■高密度用途向けに小径化による軽量化を実現 ■多様な相互接続による高い設計の自由度 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 日本ゴア合同会社