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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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1回路C接点 (1PDT)、1回路A接点 (1PST)
○10A/5Aまでのスイッチング ○接点容量 5A (10A) / AC125V, 3A / AC250V / DC30V) ○小型サイズ (18.6 x 10.4 x 15.8mm) ○高密度基板実装可能, ULファイル番号 : E131959 ○高温対応、耐薬品プラスチック絶縁材料 家電、OA機器、音響機器、車載機器に最適 ●詳しくはお問い合わせ(HP http://...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社コールトロール
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2回路C接点 (2PDT) 接点容量 2A / DC24V
O., LTD. 製(台湾) ○RSシリーズ ミニチュアリレー ○金メッキ銀パラジウム・クロスバー 接点 ○2回路C接点 (2PDT) 接点容量 2A / DC24V ○高感度タイプ ○高密度プリント基板実装対応 ○テレコム、OA機器、音響機器、リモートコントロールに最適 ●詳しくはお問い合わせ(HP http://chlortrol.com/ )、もしくはカタログをご覧くださ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社コールトロール
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