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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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自動テストシステム『PXI 高密度 汎用スイッチ モジュール』
信号の品質を最大限にするルテニウム・リード・リレーのソリューション
『PXI 高密度 汎用スイッチ モジュール』は 多くのノーマル・オープン・リレーを必要とする要件に最適な製品です。 リード・リレー・モジュールには、低・中負荷の接点で優れた性能を発揮する ルテニウムをス...
メーカー・取り扱い企業: アンドールシステムサポート株式会社 自動テストソリューション事業部
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自動テストシステム『PXI 汎用リレー・スイッチモジュール』
お客様の要件に合わせた、様々な性能のPXIリレー・スイッチモジュール
【ラインアップ】 ■PXI 低密度 汎用スイッチ ・最大32個のノーマル・オープン単極単投、2極単投または単極双投のリレー ■PXI 高密度 汎用スイッチ ・最大100個のノーマル・オープン単極単投、2極単投または単極双投のリレー ■PXI パワー 汎用スイッチ ・最大83個のパワー・リレー 単極単投、単極双投、2極単投、2...
メーカー・取り扱い企業: アンドールシステムサポート株式会社 自動テストソリューション事業部
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