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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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世界最大手のリードスイッチメーカーである弊社は幅広い製品アプリケーショ…
BEシリーズ :スイッチング 1kVDC 耐電圧6kVDC 多接点対応(1A~5A)、高電圧/高絶縁 CRFシリーズ:スイッチング1kVDC 耐電圧4kVDC 高周波対応、内部磁気シールド、高密度実装...
メーカー・取り扱い企業: 東機通商株式会社
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- 45件
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