リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

高線量放射能廃棄物処理用「Super Drum」（特許出願中）

高線量放射能廃棄物処理を容易かつ低コストで実現させました。装填も簡単な…

【特長】 ○高密度4.5ｇ/cm2以上の無機質重量コンクリート製 ○ガンマ線遮へい率40％を達成 ○低コスト、多量供給可能 ○日本9電力会社様御使用の廃棄物収納ドラム缶寸法(JIS Z 1600)に対応 ○...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルファ技研