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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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コンパクトなのに高除菌・高ウイルス分解。 withコロナ時代に安心と…
「高密度の光触媒」と「高出力の紫外線LED」を採用し、 空間の脱臭・除菌・ウイルス分解を すばやく行います。 【特徴1】 15cmの超コンパクトサイズで独自の高密度光触媒を採用することで、...
メーカー・取り扱い企業: ヨーホー電子株式会社
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