高耐熱ホース『エアロクイップ(AQP)シリーズ』

PR最高使用温度＋150℃！多種類の液体・気体に1本で対応する高耐久ハイス…

イートン社製ホース『エアロクイップ(AQP)シリーズ』は、耐熱性・耐化学薬品性・耐久性に優れ、1本で石油系作動油をはじめ、ガソリン・水・エアーなど多種類の液体・気体に対応可能。 100万回以上のインパルス試験に合格し、内部流体・外部雰囲気温度共に最高使用温度は150℃で、昇温化傾向にある油圧機器や、周辺温度が高い箇所の配管などに適しています。 AQPホースは酸化やオゾンの影響ならびに空中お...

メーカー・取り扱い企業： ドゥ・ヤマモト株式会社 本社

MANNER社製『テレメータ』

PR自動車、航空機、船舶、タービン、押出機等の回転体で、様々な計測技術を提…

-　回転体のトルク、測温、振動等の計測に -　標準パッケージからカスタムパッケージまで豊富な選択肢 -　誘導式、中距離伝送タイプ等、様々な機種展開 -　タービンのような高速回転、エンジン、トランスミッション内の耐熱等、優れた環境負荷性能 -　1~124chまで用意でき、カスタムハウジングも用意 -　高応答周波数、高サンプリングレート -　短い遅延時間で信頼性あるリアルタイム計測 -　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツイ 東京本社

高精度 プログラマブル ホットプレート HP-220

必要な機能だけを気軽に使えるエントリーモデル（ユニテンプジャパン株式会…

ドイツUniTemp社の温度コントロールの高性能さはそのままに、 リフローに必要な機能だけを搭載した手軽にお使い頂けるモデルです。 コンパクトで設置も簡単です。 ■最大到達温度250℃ ■窒素ガスパージ可能 ■16ステップの温度プログラムが設定可能 ■対象物の熱容量を自動計算してコントロールするので、 設定通りに温度制御。繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■高い...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

高真空アニール装置 「SAF-52T-II」

生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れます。

　　　　　　　　　　　　　　　設定圧：0.05～0.1MPa [性能] ○到達圧力　6.7×10-4Pa以下 (2槽排気) ○排気時間　6.7×10-3Pa迄20分 (2槽排気) ○最高温度　300℃ (試料用トレーの中央部の表面温度) ○常用温度　250℃ (試料用トレーの中央部の表面温度) ○温度調整精度　±15℃以内 (250℃にて、試料用トレーの中央部の表面温度) ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

高出力円筒形ヒーターモジュール　スパータルSMU

発熱体最高使用温度：1550℃！モジュールヒーター

円筒形ヒーターモジュール　SMU 円筒系断熱材に二珪化モリブデンヒーター(カンタルスーパー)を組み込んだ 高出力ヒーターモジュール...■□特徴□■ ■発熱体最高使用温度：　1550℃ ■炉内　最高使用温度 ：　1500℃ ■急速加熱と正確な温度制御が必要な実験炉や生産炉で使用 ■形状は、シリンダータイプで径、長さはカスタマイズ可能 ■SMUが提供できる機能 ・急速な昇降温...

メーカー・取り扱い企業： アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー

高温高出力半円筒形ヒーターモジュール　スーパータルSHC-HT

スーパータル　HT （高温用半円筒型、最高炉内温度1675℃）

半円筒系断熱材に二珪化モリブデンヒーター(カンタルスーパーHT)を組み込んだ 高温高出力ヒーターモジュール...□特徴□ ■最高炉内温度1675度 ■急速加熱と正確な温度制御が必要な実験炉や生産炉で使用 ■形状は、ハーフシリンダータイプで径、長さはカスタマイズ可能 ■タイプ：SHC　HT ■発熱部長さ：150mm ■全長：200mm ■発熱体温度：1700度 ■詳細は、お問い...

メーカー・取り扱い企業： アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー

真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…

空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御（ガス流量→ニードルバルブにて手動調整） ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm（*ロータリーポンプ筐体内設置） 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統（CH4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S. ◉ キャパシ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

化合物半導体用電極膜アニール装置（可変雰囲気熱処理装置）

化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのア…

Ｓｉプロセスに実績豊富なアニール装置を化合物半導体プロセス用にカスタマイズ。 ＧａＡｓ用のホットプレートタイプに比べ高温（９００～１０００℃）まで対応。 窒化膜半導体の電極の合金化に実績。 急速昇降温型の加熱炉を装備し、均一な加熱と最適な温度プロファイルで電極膜のアニールを制御。 生産量・プロセスにあわせて最適な装置構成を提案可能な実績豊富なウェハプロセス用熱処理装置。 ...横型石英管...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

2,000℃を超えるカーボン加熱炉の開発・設計・試作支援

光ファイバの線引炉やガラス化炉で30年の実績がある加熱炉・加熱システム…

却水系統の設計 ７．給気・排気系統の設計 ８．運転モード設計 ９．炉内の流れの設計指針（製品品質を考慮） １０．温度制御・温度分布測定方法 カーボンヒータ加熱炉の主な仕様 （１）最高温度：2,500℃ （２）ヒータ：断熱材：カーボンヒータ/カーボン系成形断熱材 （３）炉体構造：水冷ジャケット （４）炉体材質：ステンレス （５）温度制御：放射温度計（制御範囲1,700℃ー2...

メーカー・取り扱い企業： プロセスD&Tラボ 千葉

大型真空オーブン

　高真空でも大気圧でも均一加熱、安定加熱　乾燥・脱ガス・ベーキング・ア…

8００ｍｍ□×8００ｍｍＨ／バッチの大量処理が可能な多用途対応の真空オーブン。 高真空処理・真空置換後の不活性大気圧処理、低真空ガスフロー処理、複数の処理モードを１台で実現。 高真空中の均一加熱で脱ガス・ベーキング。 低真空・ガスフロー雰囲気で脱泡・脱脂・真空乾燥。 真空置換後の不活性雰囲気で部品・成形品　高速加熱アニール 実績豊富な標準タイプから各種カスタマイズで個別対応 目的に合わ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

金属ナノペースト焼結接合対応真空半田付装置

神港精機の真空半田付装置に新型登場　優れた均熱性・昇降温特性と雰囲気制…

パワーデバイスモジュールの生産を支える神港精機の真空半田付装置がアップグレード。昇降温特性と均熱性能を向上させ処理寸法も拡大。従来通りの雰囲気制御性能と処理温度の高温化によって金属ペーストの焼結接合に対応。 低酸素濃度の実現と１００％水素雰囲気による還元力によっての濡ペーストの酸化防止し濡れ性を大きく向上。 オプションの加熱加圧機構の追加でボイドレス接合も実現。 新世代接合材料もバーする神港...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

真空ガス置換オーブン

Class 1のクリーンな環境で複数枚のウェハを加熱処理 最大450…

特許技術のラミナーフロー方式 　YES PBシリーズのチャンバーは上部にガス発生プレナム、下部の吸引プレナムがついており、 　加熱されたガス(通常N2)はウェハに対して平行に流れます。 　平行層流(ラミナーフロー)は加熱プロセスによってウェハ表面に発生したパーティクルを 　除去するのに効果的です。 チャンバー内にパーティクル除去フィルタを搭載 　加熱されたプロセスガスは100um径...

メーカー・取り扱い企業： ハイソル株式会社

ポリイミドキュア装置（３００ｍｍウェハ対応　クリーンベーク装置）

３００ｍｍウェハ対応ポリイミドキュア、ベーキング、低温アニール、多層基…

真空置換後の低酸素雰囲気（N2）中で高均一性熱風加熱。300mm ウェハをカセット単位で加熱処理。システムLSIポリイミドキュア、フレキシブルプリント基板キュア・アニールに対応。３００ｍｍウェハカセット単位のキュアリングで高品質化と量産化を両立 ...低酸素雰囲気中で熱風加熱。温度均一性とクリーンネスを両立。先端デバイスの量産ラインで採用実績豊富な高信頼性装置。 半導体用ポリイミドキュアだけ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

小型遠赤外線アニール炉

携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉

（仕様） ●使用温度：４０〜２３０℃ ●電気容量：５ＫＶＡ（ブレーカー２０Ａ） ●ベルト幅：１００ｍｍ ●外形寸法：１２２０Ｌ×４００Ｗ×１１５７Ｈ（ｍｍ） ●炉長：７００ｍｍ...携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉です。 （特長） ●遠赤外線の持つ浸透力により、処理時間の短縮が可能。バッチ炉120分⇒１０分以下 ●高精度な温度分布が可能。温度精度...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノリタケカンパニー リミテド エンジニアリング事業部　東京営業所

縦型真空アニール装置

ウェハプロセス対応　本格量産システム　アニール・シンター・ポリイミドキ…

クリーンな真空中で均一加熱。高いクリーンネスや低酸素濃度を求められるプロセスに最適。縦型石英管型アニール装置。 最大８インチ相当のウェハや各種基板に対応。ＣｔｏＣシステム採用による自動化＆クリーンシステム。 中温から高温まで安定した温度分布性能と急令機構による短タクト処理 真空だけでなく各種雰囲気（不活性、酸化、還元）雰囲気処理も可能な多機能型熱処理装置 ...Ｓｉウェハへの対応を基本とし...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店