従来の熱風循環乾燥炉の効率化！高効率型乾燥炉(シェル方式乾燥炉)

PR能力とエネルギーを 10%以上向上、設備導入コストを大幅にカット！　新…

これまで主流であった熱風循環炉において、 時代に合った高効率型(シェル方式乾燥炉)がついに誕生！ 乾燥炉の構造を変えることで大きく性能向上いたしました。 高効率型(シェル方式乾燥炉)なら乾燥時間を確保しながら、 乾燥炉の必要面積を下げ、ガスの使用量(ランニングコスト)を 約10%以上削減することができます。 既存の設備でも約90%の乾燥炉で内部改造が可能で、 土日や大型連休を使って改造工事が可...

メーカー・取り扱い企業： イデア株式会社

近赤外線ヒーター（ヒートビームシリーズ）

PRハロゲンランプヒーターより放射される光（近赤外線）を照射し、高温・急速…

近赤外線ヒーター　ヒートビームシリーズは、特殊高効率ハロゲンランプから照射される近赤外線を利用し、ライン状やスポット状または、面状の熱源が得られるヒーターユニットです。 反射鏡は特殊金メッキを施し、熱効率が高くコンパクトな設計。 熱源にはハロゲンランプを使用する事により、最大1200℃までの加熱と2mm～3mm程度の集光が可能です。 ハロゲンランプから照射される輻射熱を利用しているので、非接...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイベック

高電圧パルス発生器

電圧・電流設定の操作、モニタ-を行う事が可能

・高安定度高圧電源(温度変動50ppm/℃)搭載。 ・電流、温度制御の時定数設定可能。 ・高電圧高速スイッチ(2KV-pp / 40ns)搭載。 ・各電源を機能別にモジュール化。 ・各電源の電圧、電流、温度モニタ機能。 ・負荷短絡時の保護機能。 ・5KVフローティング回路へ80W電力供給、SPI信号通信。...本電源ユニットは、研究用装置電源の機能として求められている多様な機能を有して...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社Ａ・Ｒ・Ｐ

Druck 半導体アプリケーション用圧力センサ

半導体製造装置の流量制御に必要な高精度の圧力センサ各種。モジュールのカ…

【SEMICON JAPAN2021に出展いたしました】 多くのお客様にブースにお寄りいただきありがとうございました。 【半導体製造装置の流体制御に】 半導体製造工程においてはプロセスガスの高精度な流量制御が不可欠です。厳しい条件下で高いパフォーマンスを発揮する各種圧力センサ、カスタマイズできるモジュール機能などをご提供しております。 【注目製品】 新製品：温度変化に強いADRO...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

FHR.Roll.1600-FCCLスパッタリング装置

FCCL（フレキシブル銅張積層板）製造用高スループットロール to ロ…

FCCL（フレキシブル銅張積層板）製造用高スループットロール to ロール型スパッタリング装置です。 特徴 １．装置構成の自由度が高い ２．高い温度安定性 ３．適正なシード層形成 ４．オプションでクロームフリーの接着層が可能 ５．高剥離強度を実現 詳しくはお問合せください。...詳しくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

高電流密度イオンビーム型イオン銃

EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃

EUROVAC社(スウェーデン国)は、30年以上前に設立され、ミュンヘンのパーキンエルマー社PHI部門出身の物理学者たちによって運営されています。実用的、技術的、基礎的な研究課題の解決に向け、お客様をサポートする体制を整えています。1998年にEUROVAC社は、バリアン表面科学部門(米国/パロアルト)を買収し、イオン銃、電子銃、LEED、RHEED、CMAの製造をスウェーデンのストックホルムに移...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テク

マグネトロンスパッタ装置『scia Magna 200』

最大200mm径基板！ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer …

『scia Magna 200』は、回転式単体マグネトロンの マグネトロンスパッタ装置です。 アプリケーションは、TC-SAW向け温度補償膜(SiO2)、AlN等圧電膜、 光学用高・低屈折膜、絶縁膜(Si3N4, SiO2, Al2O3)です。 また、プロセスはマグネトロンスパッタとなっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

『圧電膜形成スパッタリング装置』は、単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することが可能な製品です。 プラズマエミッションモニターによるプラズマ分析とフィードバック制御により、高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜、圧電特性低下に寄与する元素検知も可能です。 当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載しており、基板温度900℃を実現します。 ※詳しくはPDF資料をご覧...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

仕様多様化真空フランジ-「ICFフランジシリーズ」

高真空及び超高真空に対応可能の真空部品

日揚科技(Htc)は供給している真空フランジはKF(NW)シリーズ、ISOシリーズとICFシリーズの3種類があります。ICFフランジシリーズ は製品多様に揃えています。 ICFシリーズフランジを分類すると固定型、回転型、ボルト穴タイプ、タップタイプになっています。また、両側に口径を異なる接続の変換フランジもあります。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。 .....

メーカー・取り扱い企業： 日揚科技股份有限公司

【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃

超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…

半導体、電子基板、真空薄膜プロセス装置・研究開発用【超高温基板加熱機構】 対応基板サイズ：Φ2〜6inch 真空（UHV対応可能）・不活性ガス・O2・各種プロセス反応性ガス雰囲気等でご仕様いただけます。（詳細別途協議）...◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ ステージ上下昇降（基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式） ◉ 基板回転 ◉ RF(1...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」

膜厚分布：トレー内 ±1.2％、トレー間 ±1.5％を達成しました。

昭和真空は、約15年の実績を誇るベストセラー装置SPH-2500のフルモデルチェンジを行いました。 ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」は、従来装置の特徴を受け継ぎつつ最新のテクノロジーを採用し、あらゆる面で従来機を超える性能を達成致しました。 【特徴】 ○外形：W1200×D2500×H1440設置面積はそのままに大幅に低背化を実現 ○カソードを改良すること...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

中空直進導入機

真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動を伝達する導入機です。

真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動を伝達する導入機です。 ...中空構造のため、可能フランジに駆動させたものを任意に取り付けが可能 シール部に溶接ベローズを採用し、高真空の領域で使用可能 ベーキング温度120℃(最大150℃まで)対応...

メーカー・取り扱い企業： 入江工研株式会社

トランスファーロッド（Ｚ-φ軸　KTXシリーズ）

【 4000台販売突破キャンペーン実施中 】 弊社トランスファーロッ…

真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動と回転運動を伝達する導入機です。 本製品は、長い距離（500mm～1000mm）での試料等の搬送を行う際におすすめです。 マグネット方式の為、外部との真空封止は完全で、半永久的に安定した動作を得られます。 真空中に取り付けられた直線運動及び回転運度を要する機器への応用が可能です。 本体の内部には、電界研磨処理を施し超高真空領域まで使用可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社