• 真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』 製品画像

    真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

    PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

    ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

    • gisan.png
    • images2021040516155314.png
    • screen2.jpg
    • images2021052016285434.gif

    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • 3次元レーザ統合システム『ALCIS-1008e』 製品画像

    3次元レーザ統合システム『ALCIS-1008e』

    PR【変わる世界に、光でこたえを。】高出力Blueレーザによる高速・高品質…

    『ALCIS』 日々進化する素材や工程に対応する柔軟な加工機 高出力Blueレーザ発振器/ファイバーレーザ発振器を搭載 「高出力Blueレーザ」 高出力BLUEレーザ(3kW/4kW)により、高速・スパッタレスの銅溶接を実現します。 「スキャナヘッド」 スキャナヘッドにより多数の加工点の高速加工を実現。 コンビ加工、オンザフライ加工、スキャナ加工の三つの加工方法で、 好適な加工方法を選択可能で...

    • AI.png
    • CAM.png
    • sencing.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アマダ(アマダグループ)

  • 5nm、10nm高精度フィードバックコントローラ 製品画像

    5nm、10nm高精度フィードバックコントローラ

    ボールネジの位置決めで分解能10nmを制御

    独自のフィードバック制御により高精度・高速の位置決めが可能なFCシリーズにボールネジのみの位置決めで分解能10nmの制御ができるFC-500シリーズが追加されました。 その他の機能は今までのFCシリーズ(FC-301は除く)と変わりません...

    メーカー・取り扱い企業: ワイヤード株式会社

1〜1 件 / 全 1 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 修正デザイン2_355337.png
  • 4校_0513_tsubakimoto_300_300_226979.jpg

PR