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PRそれぞれに適した高周波回路基板設計を実施!お客様にご満足して頂ける製品…
SDKが取り扱う『高速デジタル基板』をご紹介します。 お客様から頂いた仕様条件を元に、アナログ及びデジタルの高周波特性を 満たす基板材料を選定。 それぞれに適した高周波回路基板設計を行い、お客様にご満足して頂ける 製品を提供致します。また部品実装・調達までワンストップで実行することで御社の工程管理負担を代行いたします。 【仕様概略(一部)】 ■CPU:PEZY-SCプロセッ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社SDK
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真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』
PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…
ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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連続めっき装置向け高速パラジウム・ニッケルめっきプロセス『PALLUN…
しました。 そのため、臭気から解放され、めっき装置やアノードの腐食も抑制します。 めっき皮膜は、展延性が高く、クラックフリーで耐磨耗性に優れています。 PALLUNA ACF-100は高速めっきプロセスであり、めっき外観は光沢です。...
メーカー・取り扱い企業: ユミコアジャパン株式会社
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【最大2700℃】独自開発熱処理炉で〈効率・コストダウン〉に貢献
金属・セラミックス ご要望に合わせ、最適な熱処理をご提案いたします!
タングステンを始めとして、高融点金属やセラミックスの熱処理を行ってきた岳石電気。 特に小型・少量・多品種の製品の熱処理を素早く、効率的に行う為にいろいろな実験を繰り返し、【約2700℃】までの高速高温の真空炉の開発などに成功。 この装置では、 ■2500℃30分保持条件⇒昇温度開始からクールダウンまで約2時間で完了! 効率化とコストダウンを実現しました。 また、一般の炉では除去し...
メーカー・取り扱い企業: 岳石電気株式会社
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ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』
課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロ…
ユニテンプジャパン株式会社 -
超低消費 村田製作所製 BLEモジュール
長距離通信、スリープモード時 36nAの超低消費電力ワイヤレス…
伯東株式会社 本社 -
パムアペックスミキサ
リアクター・ドライヤー仕様!混合・反応・加熱・冷却・乾燥が1台…
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予期せぬレーザー損傷を避けるためのレーザー損傷試験をお勧めしま…
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エクセリタスノーブルライトジャパン(旧ヘレウスノーブルライトジャパン)株式会社 -
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AI画像処理選別機『AIHシリーズ』
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製造業で3次元データを有効活用する方法を解説。設計業務に3次元…
i CAD株式会社 - 機械設計向け3DCAD(3次元CAD)開発元 -