サーボアンプ　CA350-011シリーズ

PR安定した高速駆動　高精度な制御を実現　

■特徴 CA350-011は、直動サーボ弁駆動用サーボアンプです。 指令入力電圧に比例して、サーボ弁のスプール位置を変位制御します。 出力にはPWM方式を採用し、安定した高速駆動が可能です。 サーボ弁のスプール部に設置したLVDTセンサによる変位信号を、電圧値でフィードバックすることにより高精度で制御します。 基板本体は100×139mmの樹脂製ケースに収められ、コンパクトかつ軽量に仕上がっていま...

メーカー・取り扱い企業： ピー・エス・シー株式会社

【様々な設備でも手軽に電力計測】センシングパッケージ

PR「簡易電力計測パッケージby C-BOX」で古い設備、複雑配線な装置の…

【ポイント】 ・オールインワンでパッケージ化されて税別16万円～の低価格 ・すぐに電力削減活動への取り組みを開始 ・簡単に持ち運びできるため計測箇所の変更が自由 【簡易計測パッケージby C-BOXとは】 センサとC-BOXで1対1の通信を行い、電源とモニタに接続するだけで簡単に無線センシングが始められる商品となっています。工場/オフィスに関わらず、設備・センサを繋ぐIoTを安価に導...

メーカー・取り扱い企業： 新東工業株式会社

高電圧パルス発生器

電圧・電流設定の操作、モニタ-を行う事が可能

・高安定度高圧電源(温度変動50ppm/℃)搭載。 ・電流、温度制御の時定数設定可能。 ・高電圧高速スイッチ(2KV-pp / 40ns)搭載。 ・各電源を機能別にモジュール化。 ・各電源の電圧、電流、温度モニタ機能。 ・負荷短絡時の保護機能。 ・5KVフローティング回路へ80W電力供給、SPI信号通信。...本電源ユニットは、研究用装置電源の機能として求められている多様な機能を有して...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社Ａ・Ｒ・Ｐ

高電流密度イオンビーム型イオン銃

EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃

の製造をスウェーデンのストックホルムに移管し、製品、スペアパーツ、サービスサポート等を提供する製造メーカーとして信頼性の高い非常に優れた機器を低価格でご提供しております。 【特⾧】 　■ 高電流密度イオンビーム：サンプル表面のスパッタ洗浄及び薄膜構造の迅速で正確な深さプロファイリングに最適です。 　■ スイッチャブルデュアルフィラメント：真空サイクル中でフィラメントがバーンアウトした場...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テク

リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

研究・開発用機器/超高真空機器

信頼性の高いシステムを構築！メンテナンスや改造も当社にお任せください

当社は30年以上真空技術に携わり、ユーザー様の仕様に合わせた製品を 主に研究機関に提供してまいりました。 2系統のガス導入が可能な「RFマグネトロンスパッタ装置」や 安価で手軽に薄膜作製が可能な「小型真空蒸着装置」など 真空成膜装置を多数ラインアップ。 その他「真空チェンバー」や「ターボ真空排気装置」などの 各種研究用装置もご用意しております。 ご用命の際はお気軽にご相談...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ

リモートイオンソース型 HR-PVDスパッタリングモジュール

指向性成膜を実現し、リアクティブスパッタリングも可能な高イオン電流ヘリ…

AVP Technology社製 HR-PVDスパッタリングモジュール ・ヘリコンプラズマイオンソースを用いたリモートプラズマソースによりICPソースと比べ高いイオン化効率を実現しています。 ・傾斜角方向からの優れた直進性により、膜厚均一性およびステップカバレッジにおいても優れた結果を得ています。 ・リモートプラズマにより、基盤を低温に保っての成膜を実現します。 ・ターゲット利用効率においても優...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【多目的真空蒸着装置】電子ビーム蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用1源および4源電子ビーム蒸着源

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の電子ビーム蒸着源です。 TAUシリーズは"ミニ"電子ビーム蒸着源です。TAUを使用することでHEXシステムを電子ビーム蒸着装置（EB蒸着装置）として使用できます。材料に高電圧が印加され、そのすぐ横にあるフィラメントから放出される熱電子を材料に加速衝突させることで加熱します。大型の電子ビーム蒸着源に見られるような、電子ビーム偏向マグネットは使用しません。...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社