リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

いまさら聞けない！セラミックスの基本　※解説資料無料進呈中

PRセラミックスの特長や材料から、設計上の注意ポイントまで一挙に解説

セラミックスは硬い、電気に強い、熱に強い、腐食に強い といった特長がありますが 加工によっては歪みや曲りが起こりやすいことも事実です。 当社は1881年から140年以上続く、セラミックスメーカーです。 お客様の仕様に基づいてさまざまなセラミックス部品を提供してきた経験から、 セラミックスの特長を生かすための「設計上の留意点」もまとめた解説資料を作成しました。 【掲載内容】 ■セラミックスの特長...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社友玉園セラミックス

機械加工・高周波焼入・研削加工・検査を1社完結！

マシニングセンターの生産性向上をバックアップ！機械加工・高周波焼入・研…

グセンター →１０００×５５０　３台 →１５００×６３０-２ＡＰＣ　１台 ○横マシニングセンター →３５０×３５０-１０ＡＰＣ　１台 →５００×５００-２ＡＰＣ　１台 →５００×５００-８ＡＰＣ　１台 →１０００×１０００-２ＡＰＣ　１台 [研磨機] ○ＮＣ平面研磨機 →６００×３００　１台 →１２００×６００　１台 ●詳しくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社西尾

指で摘めるサイズの万力・そして高精度・マイクロ角バイス２０

手のひらに乗るマイクロサイズのバイスです。水平や垂直に保持したいときに…

【寸法】本体の長さ３０ｍｍ、巾２０ｍｍ、高さ２０ｍｍ 口金の巾１６ｍｍ、掴み深さ８ｍｍ 口金の最大開き巾１７ｍｍ 【重量】約１００ｇ 【付属品】ツマミ、丸爪着脱用Ｌ字スパナ ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハープ