真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム　カタログ

ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、サブミクロン分解能（0.1μm or 0.05μm）の再現性を実現した精密位置決め装置（フィードバックステージシステム）。
真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。

ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、
『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、
幅広い用途で利用されています。
ストロークは20mm～100mmまでラインアップ。

位置決めでお悩みでしたら、是非お問い合わせください。

■詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 （詳細を見る）

サブミクロンフィードバックステージと組み合わせて50nm分解能位置決め装置として使用できます。
ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック（フルクローズドループ）制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。

外部機器からコマンドによる通信制御が可能で、測定システムの一部として使用できます。 （詳細を見る）

■高分解能、再現性
コントローラ内蔵のモータードライバーによりサブミクロン分解能でステージを動作させ、
ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、
高分解能で再現性に優れています。
ステージコントローラにより、100nm（0.1μm）か50nm（0.05μm）分解能で動作します。

■長ストローク
最大400mmの可動ができます。
これにより精密位置決めと試料の退避が1台のステージで可能です。

■制御
コントローラには通信インターフェースがいくつか用意されており、
コマンド文字列をPC等から入力することでステージを制御することができます。

■可動タイプ
直動だけでなく昇降タイプや微小回転もラインナップしております。

詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 （詳細を見る）

光学式リニアスケールを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。

『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。

アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。

独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。

(*1)フィードバックステージコントローラFC-411との組み合わせ
(*2)フィードバックステージコントローラFC-111との組み合わせ （詳細を見る）

光学式リニアエンコーダを内蔵しており、ステージの可動部分の位置を検出することができるため、その位置情報をもとにコントローラが降るクローズドループ制御を行うため位置の再現性に優れています。

分解能はコントローラによって「0.00005」または「0.0001」分解能で
動作させることができます。

アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 （詳細を見る）

内蔵の光学式リニアエンコーダでステージのテーブルの位置を検出して、コントローラに位置情報をフィードバックしているため高分解能で位置再現性に優れています。

ステッピングモーターとボールねじを使用して駆動しているため
位置の保持性に優れています。

アウトガス対策として潤滑材、線材やモーター等を真空対応品に変更しているため、真空チャンバー内で使用可能です。

20mmの範囲を動作可能で「50nm」または「100nm」分解能で
制御することが可能です。（コントローラによって変わります）

 （詳細を見る）

内蔵の光学式リニアエンコーダでステージの位置を検出してフルクローズドループ制御を行っているため高分解能で位置再現性に優れています。

ステッピングモーターとボールねじを使用して駆動しているため
位置の保持性に優れています。

真空チャンバー内でアウトガスが発生しづらい部品などを使用しているため、真空チャンバー内にステージを配置することができます。

40mmの範囲を動作可能で「50nm」または「100nm」分解能で
制御することが可能です。（コントローラによって変わります）

 （詳細を見る）

ステッピングモーターとボールねじを使用して駆動しているため
位置の保持性に優れています。

内蔵の光学式リニアエンコーダでステージの位置を検出してフルクローズドループ制御を行っているため高分解能で位置再現性に優れています。

アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。

50mmの範囲を動作可能で「50nm」または「100nm」分解能で
制御することが可能です。（コントローラによって変わります）

 （詳細を見る）

内蔵の光学式リニアエンコーダでステージの位置を検出してフルクローズドループ制御を行っているため高分解能、位置再現性に優れています。

アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。

100mmの範囲を動作可能でその分解能はコントローラによって
「50nm」または「100nm」になります。

 （詳細を見る）

サブミクロンフィードバックステージと組み合わせて100nm分解能位置決め装置として使用できます。
ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック（フルクローズドループ）制御を行っているため、高分解能かつ再現性に優れています。
そのため、再現性が必要な精密検査や研究等で使用されています。

外部機器からコマンドによる通信制御が可能で、測定システムの一部として使用できます。 （詳細を見る）

シグマテックが設計・製造・販売を行っている、大気用高分解能位置決め装置及び真空対応高分解能位置決め装置 （フィードバックステージシステム）の総合カタログ。
フィードバックステージ ・ フィードバックステージコントローラ及びケーブル、オプションについての仕様・構成・価格などを網羅。

位置決めの事なら何でもご相談ください。

■大気用システム特徴・説明
リニアスケールを内蔵した小型位置決め装置を開発・製造・販売しております。半導体関連の装置、通信関連、先端研究の光学系などで使用されており、そのノウハウを元にお客様のニーズに応えます。

■真空対応システム特徴・説明
創業以来特注対応にて得た真空対応に対するノウハウを元に真空用途で高分解能及び高精度な再現性を御提供致します。

詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 （詳細を見る）

情報通信・半導体・バイオなどさまざまな分野で使用されているステージ。「選定時に知っておきたい Q&A」は、精密な位置決めステージを検討している方や現在使用しており、より精密な動作が必要な方が位置決めステージを選定するときに必要な情報を、まとめてQ&A形式で解説しております。

【Q&A掲載例】
■ステージとストロークのサイズはどのくらい？
■簡単に通信する方法は？シーケンサとの接続は可能か？
■オープンステージとフィードバックステージの違いは？
■位置決め時間はどのくらいか？
■どのようなところで使用されているか？…

※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータをご覧下さい  （詳細を見る）