パーカー熱処理工業株式会社川崎事業所
最終更新日:2010-06-07 14:32:40.0
真空蒸着システム
基本情報真空蒸着システム
真空蒸着システム
プラズマを利用したCVDで、source gas などで分解させ、そこで発生する
グロー放電を利用する薄膜合成法です。
Glow discharge を起こさせるために、0〜13.56MHzの多様な周波数領域の
powerを利用します。
■□■メリット■□■
■高純度フィルムの形成が可能
■Source Gas によって多様な薄膜の形成が可能
■大面積をコーティングする時にも、均一なuniformityと高い蒸着率
■CONTROLが簡単で、大量処理が可能
■薄膜蒸着における低い工程温度
●その他詳細は、資料請求またはカタログをダウンロードして下さい●
取扱会社 真空蒸着システム
●工業薬品(塩浴剤、熱処理防止剤等) ●プラント(真空浸炭、オーステンパー設備、ガス窒化(軟窒化)他 ●表面処理加工(イソナイト処理、真空浸炭、各種表面処理加工))
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