表面処理の特性予測ソリューション

当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。
希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、
有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションに活躍。
お客様のニーズに合わせた対応も可能です。

【ラインナップ】
《希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』》
■非構造メッシュに対応しているため、複雑な形状の計算に対応
■装置内全体のガス流れのシミュレーションが可能

《プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』》
■低圧のプラズマシミュレーションが可能
■プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに

この2つのシステムで、半導体製造における薄膜生成、スパッタリング、
プラズマエッチングなどの様々なシミュレーションに対応可能です。

※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。 （詳細を見る）

『Particle-PLUS』は
プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造に適した
シミュレーションソフトウェアです。

・低圧プラズマ解析を得意とします
・CCPや外部回路モデル等の高度な物理モデル解析が可能です
・流体モデルでの計算が難しい低圧ガスでのプラズマシミュレーションを得意とします
・2D(2次元),3D(3次元)対応し、複雑なモデルでも効率良く解析できます
・自社開発ソフトの強みとして
標準機能でのCCP,マグネトロンスパッタ計算はもちろん、
お客様の装置に合わせたカスタマイズも可能です

◆さまざまな事例に対応◆
・マグネトロンスパッタ
・PVD、プラズマCVD
・容量結合プラズマ (CCP)
・誘電体バリア放電 (DBD)
・電気泳動　など

◆さまざまな計算結果を出力◆
・ポテンシャル分布
・電子・イオンの密度分布/温度分布/発生分布
・壁への粒子フラックスとエネルギーフラックス
・壁への電子・イオンのエネルギースペクトル
・中性ガスの密度分布/温度分布/速度分布
など

※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

【特長】
■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能
■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる
■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる
■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能

◆さまざまな事例に対応◆
・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション
・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション
・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE )
・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション

などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション

◆さまざまな計算結果を出力◆
・化学反応の計算
・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算
・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算
・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
 （詳細を見る）

『Materials Studio』
量子力学(密度汎関数法)、古典力学(分子動力学計算)、
メソスケール(散逸粒子動力学計算など)、統計、分析/結晶化ツールを備えた
次世代材料開発向け分子モデリング/シミュレーションツール群。

【特長】
■材料開発を効率化するシュミレーションソフト
　　業界・分野を問わず、研究、開発、設計、製造に従事される方にご利用いただけます

■さまざまなタイプの材料に対応
　材料科学や化学分野の材料の物性や挙動について
　原子や分子の構造がどのように関係しているかを予測し、
　物理現象を理解する際に有効

■事例
　結晶成長や薄膜形成、燃料電池、潤滑剤などの研究開発
　触媒、ポリマーや混合物、金属や合金、電池や燃料電池など

■「Materials Studio Visualizer」でより快適に可視化が実現
■一つのGUI画面上で、結晶構造の作成、計算条件設定、計算結果表示の
　全てを行うことが可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

『Particle-PLUS/DL』は、従来のプラズマシミュレーションでの課題を
解決するCAE代理(サロゲート)モデルソフトウェアです。

「第四の科学」として注目を浴びている深層学習×CAEを融合。
高速計算でパラメトリックスタディを実現し、プラズマ解析の
初期の検討で活用が期待できます。

また、機械学習の学習データをCAE解析モデルから生成する為、
大量の実験データがなくても解析が可能です。

【特長】
■数秒間で結果が確認できる
■シンプルでわかりやすいGUI画面
■大量の実験値がなくてもプラズマ解析が可能
■発散しない
■Windows10 マシンに対応

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

VizGlowはプラズマシミュレーションの専門家、テキサス大学オースティン校のRaja教授が設立した、米国Esgee Technologies社によって開発された、汎用プラズマシミュレーションソフトウェアです。 （詳細を見る）

VizSparkは、プラズマシミュレーションの専門家、テキサス大学オースティン校のRaja教授が設立した、米国Esgee Technologies社によって開発された、アークプラズマシミュレーションソフトウェアです。

点火プラグ及び遮断器での解析に最も多くの実績があり、学会においても多くの事例が発表されております。

国内でも完成車メーカー、重点メーカーを中心に多くの実績があり、以下のような装置の解析に対応しています。

・遮断機
・大気圧放電
・点火プラグ(スパークプラグ)
・プラズマトーチ（プラズマジェット）
・溶接
・溶射
・高輝度ランプ （詳細を見る）

PipelinePilotはデータの前処理から分析、グラフ作成などの見える化といったデータ分析に関する全ての作業を一つの製品上で実施可能なソフトウェアです。

・「実験結果」データは沢山あるが、どの様に分析していいかわからないが活用したい
・「実験結果」から機械学習を利用して傾向などを見たい
などなど

新規開発時の候補絞り込みや複雑で関係性が見えないデータの相関関係を見出す用途にご利用できます。

【特長】
◆プログラミングの知識無くても簡単にデータ処理フローを作成
◆大規模データを取り扱う場合、ネックとなるデータの前処理が簡単
◆化学系、創薬系メーカーでの導入実績が多数
◆材料開発シミュレーションソフト「Materials Studio」との連携が可能

※詳しくはお問い合わせください。 （詳細を見る）

CAEソフトウェア・分子モデリング・分子シミュレーションソフトウェアを組み合わせることで、より広い解析対象をカバー！
たとえば、調べたい材料表面の作成/処理過程＆材料特性など
プラズマプロセス装置の解析と表面状態の特性予測をまとめて提供します！
【解析対象となる物理現象】
・結合と活性化
・成膜
・スパッタや浸食
・脱離や洗浄　　　など

【評価可能な表面特性例】
・原料ガスやプラズマの入射量やエネルギー、あるいは浸食/成膜速度の評価
・物質の原子/分子データに基づきその材料特性を評価
・入射粒子の表面反応予測
・処理後の表面粗さ評価
・処理前後の親水性の変化
・処理後結晶の屈折率計算 など
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

複数の解析ソフトウェアを駆使した『表面処理の特性予測ソリューション』を
ご提案いたします。

解析ソフトウェアである「CAEソフトウェア」「分子モデリング」
「分子シミュレーションソフトウェア」を組み合わせることで、
より広い解析対象をカバー。

調べたい材料表面の作成/処理過程＆材料特性などプラズマプロセス装置の
解析と表面状態の特性予測をまとめて提供します。

【特長】
■各種解析ソフトを組み合わせる事で、表面改質への様々な取組が可能
■実験できない範囲も解析が可能
■プラズマ解析が可能
■新規材料探索、マテリアルズ・インフォマティクス(MI)取り組みが可能
■お客様のご要望に応じたご相談、提案が可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

【特長】
■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能
■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる
■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる
■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能

◆さまざまな事例に対応◆
・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション
・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション
・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE )
などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション

◆さまざまな計算結果を出力◆
・化学反応の計算
・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算
・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算
・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
 （詳細を見る）

【特長】
■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能
■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる
■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる
■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能

◆さまざまな事例に対応◆
・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション
・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション
・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE )
・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション

などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション

◆さまざまな計算結果を出力◆
・化学反応の計算
・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算
・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算
・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
 （詳細を見る）

【特長】
■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能
■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる
■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる
■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能

◆さまざまな事例に対応◆
・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション
・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション
・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE )
・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション

などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション

◆さまざまな計算結果を出力◆
・化学反応の計算
・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算
・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算
・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
 （詳細を見る）

【特長】
■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能
■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる
■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる
■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能

◆さまざまな事例に対応◆
・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション
・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション
・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE )
・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション

などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション

◆さまざまな計算結果を出力◆
・化学反応の計算
・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算
・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算
・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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