【半導体関連マスク‐技術資料】よくわかる！ガラスマスク・スクリーンマスク・メタルマスクの基礎

電子部品実装用メタルマスク、半導体パッケージ用精密版、ディスプレイ用マスクの開発・製造・販売を行っております。

高アスペクト、連続印刷に適した微小部品連続印刷用「SHGメタルマスク」
をはじめ、「SMT実装用メタルマスク」や「PROマスク/ナノマスク」
などを掲載しています。


※弊社グループであるプロセス・ラボ・ミクロンの製品カタログです。
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

竹田東京プロセスサービス ファインプロセス本部では、プリント基板や電子部品の電子回路形成用として使用される
フォトマスク（ガラスマスク）、スクリーンマスク、メタルマスクを、短納期かつ低価格でご提供しております。
万全の生産体制で高精度かつ高品質なマスクでお客様の多様なニーズにお応えします！

本資料は、当社ならではの視点で
『ガラスマスク・スクリーンマスク・メタルマスクの基本』を詳しくおまとめしています。
部署の異動や配属、転職等で新たにマスクをご使用になる方向けの資料です。ぜひ選定の際にご活用ください！

【資料掲載内容】
◎ガラスマスク編
　・基本構造、種類、作り方
　・ペリクル付きCrガラスマスクについて
　・Emガラスマスク、Crガラスマスクについて
◎スクリーンマスク編　…　基本構造、乳剤の種類、作り方　
◎メタルマスク編　…　基本構造、種類、作り方


＊本資料は［PDFダウンロード］よりご覧いただけます。
＊その他ご不明な点は、お気軽にお問い合わせください。 （詳細を見る）

『フォトマスク‐クロムマスク‐』は、耐久性および微細性が高く
高精度な意匠形成に有効です。

CSP、FC-CSP、FPC、薄膜チップ部品、磁気ヘッド、他各種パッケージ、
ディスプレイ、タッチパネル形成用などの用途にご使用いただけます。

【仕様・規格（抜粋）】
■最大マスクサイズ（mm）：800×800×12t
■ガラス材質：ソーダライム（SL）／石英（QZ）
■膜質：2層 低反射クロム膜／その他
■膜厚（μm）：100～160／その他
■環境温度による影響：0.8μm/℃/100mm（SL）0.05μm/℃/100mm（QZ）
■環境湿度による影響：なし

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当社は、CAD設計からマスク製造までを行う一貫生産体制を構築しております。

スクリーンマスクにおいては、工程ごとの厳しい品質管理を徹底し、万全の検査・機密保持管理体制を整え、新鋭機器を駆使した高品質、大量生産、低コストでの生産が可能です。
対応スピードと幅広い品ぞろえの両面での充実を実現いたします！

【T4マスクについて】
■用途…配線パターン印刷、ベタパターン印刷
■特徴
・100μmの配線パターンに対応可能
・ベタパターン印刷にも対応できるマルチな性能

※乳剤タイプの比較資料はPDFをダウンロード、もしくはお気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

『フォトマスク‐エマルジョンマスク‐』は、基材がガラスなので
湿度影響を受けにくいことから、寸法安定性が高く解像性に優れています。

CSP、FC-CSP、FPC、薄膜チップ部品や、その他各種パッケージ、
タッチパネル形成用などの用途にご使用いただけます。

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

当社は、CAD設計からマスク製造までを行う一貫生産体制を構築しております。

スクリーンマスクにおいては、工程ごとの厳しい品質管理を徹底し、万全の検査・機密保持管理体制を整え、新鋭機器を駆使した高品質、大量生産、低コストでの生産が可能です。
対応スピードと幅広い品ぞろえの両面での充実を実現いたします！

【T5マスクについて】
■用途…配線パターン印刷
■特徴
・優れた解像性
・50umの微細パターンの再現が可能
・耐摩耗性、耐溶剤性
・繰り返しの使用にも対応

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当社の『スクリーンマスク』は、解像性に優れ、50umの微細パターンの再現が可能な「T5マスク」をはじめ、「T4マスク」をラインアップしています。

【耐水・耐溶剤加工について】
ペーストや洗浄剤に含まれる溶剤に対し、乳剤の膨潤を抑制します。
連続印刷時の膜厚変動防止に対して有効です。

※その他オプション詳細はPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

竹田東京プロセスサービスの『HPFマスク』は、当社新工法にて作製した撥水スクリーンマスクです。
従来の撥水品との接触角よりも、撥水性・耐久性が大幅に向上しているのが特徴です。

【スクリーンマスクによくあるお困りごと】
・ニジミが発生してしまう…
・マスクの清掃回数が多い…
・マスクの寿命が短い…
⇒このようなお困りごとは『HPFマスク』で解決！

※技術資料は「PDFダウンロード」よりご覧いただけます。
※その他ご不明な点は、お気軽にお問い合わせください。 （詳細を見る）

当社の『スクリーンマスク』は、解像性に優れ、50umの微細パターンの再現が可能な「T5マスク」をはじめ、「T4マスク」をラインアップしています。

【撥水・撥油加工について】
ペーストの吐出性をコントロールし、印刷ニジミ防止に有効です。
連続印刷性の向上が期待できます。

※その他オプション詳細はPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

当社の『静電破壊対策用Crガラスマスク』は、帯電物が接近してもパターン破壊が起こりにくいフォトマスクです。

大量の露光回数に対しても、破損することなく1枚で対応可能です。
マスクの取り替えにかかっていたコストを削減できるほか、安定した生産スピードを維持できるため、生産効率アップにも貢献します。

また、豊富な静電破壊対策仕様品の量産の経験を活かし、
一般仕様品と同等の工期で、高い除電性能のフォトマスクを提供いたします！

【静電破壊対策用Crガラスマスクの特長】
■帯電した人や設備が接近しても破損しづらい
■高い防汚性・清掃性
■微細性に優れ、高精度な意匠形成が可能
■電子部品のフォトマスクやキャリブレーションプレートに

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当社の半導体関連マスク部門は、CAD設計からマスク製造までを一貫生産体制で行います。

スクリーンマスクにおいては、工程ごとの厳しい品質管理を徹底し、万全の検査・機密保持管理体制を整え、新鋭機器を駆使して高品質、大量生産、低コスト生産が可能です。
対応スピードと幅広い品ぞろえの両面の充実を実現いたします。

当社の『スクリーンマスク』は、解像性に優れ、50umの微細パターンの再現が可能な「T5マスク」をはじめ、「T4マスク」や、「T3マスク」をラインアップしています。

【仕様】
■枠サイズ
　・最大サイズ：□1,000mm
■メッシュ種
　・ポリエステル/ステンレス
■標準メッシュカウント　
　・ポリエステル：120～305（本/インチ）
　・ステンレス：165～500（本/インチ）

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当資料では、メタルマスクあるあるお悩みを解決いたします。
当社の技術をメタルマスクで起こる課題を交え、ご紹介します。

「6つの技術」をご用意し、お客様の様々なご要望にピンポイントでお応えします。

［現在ご使用されているメタルマスクにおいて、悩みをお持ちではありませんか？］
■はんだの抜け性が悪い
■はんだの高さが安定しない
■位置がずれる
■耐久性が悪い

［当社について］
竹田東京プロセスサービス ファインプロセス事業部では、高い品質と精度のフォトマスク（ガラスマスク）、スクリーンマスク、メタルマスクを、短納期かつ低価格でご提供しております。
半導体関連のマスク製品にお困りの際は、ぜひ当社へお問い合わせください。

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