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      • 熱天秤装置『HVTB-1100』【金属材料の重量変化測定が可能】 製品画像

        熱天秤装置『HVTB-1100』【金属材料の重量変化測定が可能】

        アルゴンガスまたは真空雰囲気で金属材料の重量変化測定が可能な熱天秤装置!最大1100℃まで加熱が可能です!

        『HVTB-1100』は、アルゴンガスまたは真空雰囲気で金属材料の重量変化 測定が可能な熱天秤装置です。サンプル加熱装置は開閉式管状炉により 最大1100℃まで加熱(側面石英窓から加熱中に目視)が…

      • 高真空対応ゲートバルブ【高真空対応のベローズ軸シール】 製品画像

        高真空対応ゲートバルブ【高真空対応のベローズ軸シール】

        高真空対応のベローズ軸シール、潤滑剤フリーのメカニズムで、コンパクトな設計!容易に取り付けられアフターメンテナンスも簡単!

        『高真空対応ゲートバルブ』は、高真空対応のベローズ軸シール、潤滑剤 フリーのメカニズムで、コンパクトな設計です。低振動、高品質で多種を ラインアップしており、リーズナブルな価格でご提供いたします。…

      • 磁場中熱処理炉『HV-0.5TS』【磁場中での高温熱処理が可能】 製品画像

        磁場中熱処理炉『HV-0.5TS』【磁場中での高温熱処理が可能】

        非磁性加熱源を採用で、磁場中での高温熱処理が可能!熱処理後に雰囲気をキープしたまま冷却チャンバにに移動しガス冷却することが可能!

        非磁性加熱源を採用している為、磁場中での高温熱処理ができ、熱処理後 に雰囲気をキープしたまま冷却チャンバに移動し、ガスフローすること によりガス冷却することが可能。 また、冷却水循環装置、各…

      • 極低温熱電特性/比抵抗/ホール測定システム『HCT-100E』 製品画像

        極低温熱電特性/比抵抗/ホール測定システム『HCT-100E』

        電気抵抗・ホール効果・熱電特性の自動同時測定が可能!広範囲の温度測定を実現しました!

        40mmギャップで0.5Tの磁界を発生させることができる軽量・コンパクトな 磁界発生装置を採用。電気抵抗・ホール効果・熱電特性の温度依存測定を 自動制御し、電気抵抗率・ホール係数・キャリア密度等演…

      • 極低温電気抵抗測定装置『HCER-100』 製品画像

        極低温電気抵抗測定装置『HCER-100』

        多様なサンプルに対応!温度制御可能範囲300K~4.2Kの極低温電気抵抗測定装置!

        多様なサンプルに対応しており、最大□10mmのサンプルを計測可能。 多段式輻射シールド及び三段式真空容器構造によりサンプル交換が容易です。 スイッチ一つで室温から極低温まで、温度制御できます。(温…

      • 小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】 製品画像

        小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】

        クリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置!シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着ができます!

        『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置(デポアップ)です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です…

      • 6軸ステージコントローラ『TBB-6000』 製品画像

        6軸ステージコントローラ『TBB-6000』

        最大250分割可能なマイクロステップドライバを内蔵した6軸ステージコントローラ!多軸位置決め制御、各種実験・研究装置用途に!

        『TBB-6000』は、タッチパネルによる手動操作、インタフェースからの 遠隔操作に対応したコントローラです。位置決めに関する基本機能の他、 拡張性を有しているのでご要望よりカスタマイズ、OEM製…

      • 2インチ2元スパッタリング装置『HMS2-300』 製品画像

        2インチ2元スパッタリング装置『HMS2-300』

        フラットヒータ加熱により最大600℃まで昇温可能!真空及びガス置換雰囲気下での成膜に対応したスパッタリング装置!

        『HMS2-300』は、フラットヒータ加熱により最大600℃まで昇温可能な ため、高温化での成膜が可能な2インチ2元スパッタリング装置です。真空 及びガス置換雰囲気下での成膜に対応しています。2イ…

      • 真空導入機構『トランスファーロッド/回転導入器』 製品画像

        真空導入機構『トランスファーロッド/回転導入器』

        超高真空対応で回転防止機構のあるトランスファーロッドや、ベローズ式回転導入器、 磁気結合型回転導入器!

        超高真空対応(ベアリング軸受け)の「トランスファーロッド」をはじめ、 コンパクト設計で非磁性構造の「ベローズ式回転導入器」や、シャッタ機構 に適した「磁気結合型回転導入器」をご用意しております。 …

      • 高温雰囲気熱処理炉『HFQ-1100』【1100℃まで昇温可能】 製品画像

        高温雰囲気熱処理炉『HFQ-1100』【1100℃まで昇温可能】

        1100℃まで昇温可能な高温雰囲気熱処理炉!真空及びガス置換雰囲気下での熱処理に対応し!高温焼成及び溶融、ガス分析に!

        『HFQ-1100』は、高温化での熱処理ができ、常用1100℃(最大1150℃) まで昇温可能な高温雰囲気熱処理炉です。真空及びガス置換雰囲気下での 熱処理に対応。高温焼成及び溶融、ガス分析に適し…

      • 高真空加熱マイクロプローバ『HMP-100』【最大500℃対応】 製品画像

        高真空加熱マイクロプローバ『HMP-100』【最大500℃対応】

        高真空仕様の加熱マイクロプローバ!加熱温度は最大500℃で、10mm形状の サンプル加熱に対応します!

        『HMP-100』は、排気系により<10^-4Paでの使用が可能な高真空仕様の 加熱マイクロプローバです。加熱温度は最大500℃で、10mm形状の サンプル加熱に対応します。TRIAXコネクタを採…

      • ターボ分子ポンプ排気装置『HUVSシリーズ』 製品画像

        ターボ分子ポンプ排気装置『HUVSシリーズ』

        排気速度250L/秒と77L/秒から選べるターボ分子ポンプ排気装置!ポンプや真空計の組合せは自由に選択可能です!

        『HUVSシリーズ』は、高圧縮比(圧縮比1×10の11乗)のターボ分子ポンプ を採用したターボ分子ポンプ排気装置です。排気速度250L/秒と77L/秒の 2種類をラインナップ。フルレンジ真空計を標…

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