シエンタ オミクロン株式会社 CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKO
- 最終更新日：2020-01-10 11:48:13.0
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The Carbon Sublimation Source - SUKO - was developed for growth of Si-C and Si-Ge-C alloys in silicon MBE. The SUKO provides a very clean and constant flux at a low deposition rate up to 2 Å/min. A maximum total layer thickness of 5 μm C with one filament is reported.
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基本情報CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKO
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取扱企業CARBON SUBLIMATION SOURCE SUKO
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○固体表面の分析・評価技術、製膜技術 ○関連装置の輸入と開発・製造・サービス・販売
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