強力なプラズマ分子照射とヒータチャックを組み合わせることにより、通常のプラズマクリーナーでは除去することが難しい有機物等を除去。
特長
●高出力密度ダウンストリーム・プラズマ処理
●ヒータステージ最高温度250℃
●MFCによる各種ガス雰囲気制御（最大４系統）
●低周波40kHzプラズマ電源により効率的で加熱の少ない処理を実現
（CV200RFS）
●ストリップレート
CV200RFS：最大7000Å/分
EcoClean：1.5～10μｍ/分
基本情報プラズマアッシャー/ストリッパー
特長
●高出力密度ダウンストリーム・プラズマ処理
●ヒータステージ最高温度250℃
●MFCによる各種ガス雰囲気制御（最大４系統）
●低周波40kHzプラズマ電源により効率的で加熱の少ない
処理を実現（CV200RFS）
●ストリップレート
CV200RFS：最大7000Å/分
EcoClean：1.5～10μｍ/分
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 型番・ブランド名 | CV200RFS＆EcoClean |
| 用途／実績例 | 特長 ●高出力密度ダウンストリーム・プラズマ処理 ●ヒータステージ最高温度250℃ ●MFCによる各種ガス雰囲気制御（最大４系統） ●低周波40kHzプラズマ電源により効率的で加熱の少ない 処理を実現（CV200RFS） ●ストリップレート CV200RFS：最大7000Å/分 EcoClean：1.5～10μｍ/分 |
取扱企業プラズマアッシャー/ストリッパー
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