ペガサスソフトウェア株式会社 プラズマPICモンテカルロ衝突モジュール（PIC-MCCM）
- 最終更新日：2020-10-06 17:25:04.0
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『プラズマPICモンテカルロ衝突モジュール（PIC-MCCM）』は、プラズマ
CVD装置、プラズマエッチング装置、スパッタリング装置、機能性薄膜の
製造装置といった装置内の、非平衡低温プラズマの挙動を解析ができる
モジュールです。
装置内のプラズマ密度が、比較的低い（10^16[#/m3]；10^10[#/cc]程度以下）
場合のプラズマ解析を得意としており、電磁場中での電子ビーム、イオン
ビームの軌道解析などといった荷電粒子挙動解析も可能です。
【特長】
■物理モデルが比較的簡単である
■シミュレーションの際に持ち込まれている物理モデルの仮定や近似が少ない
■計算の精度が高い
■SMCMとのカップリングにより、バッファガス・ラジカル種の影響も
考慮にいれた連成シミュレーションを行うことが可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報プラズマPICモンテカルロ衝突モジュール（PIC-MCCM）
【機能一覧（一部）】
■応用分野：非平衡低温プラズマ（プラズマCVD 装置、プラズマエッチング装置、スパッタリング装置、
機能性薄膜の製造装置）、イオンビームや電子ビームの軌道解析
■モデリング手法：粒子法
■解析手法：Particle-In-Cell Monte Carlo Collision（PIC-MCC）法
■対象次元：2次元（デカルト座標系、軸対称座標系）
■ソルバー：ドライバー PIC-MCCM／モジュール PEM、ECSDB、EMM
■座標系：デカルト（xy直交）座標系／円筒（rz直交）座標系
■メッシュ形状：直交メッシュ（可変ピッチ可能）
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カタログプラズマPICモンテカルロ衝突モジュール（PIC-MCCM）
取扱企業プラズマPICモンテカルロ衝突モジュール（PIC-MCCM）
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真空／プラズマ／希薄気体技術分野での物理現象を解析するシミュレーションソフトウェア；ＰＥＧＡＳＵＳ（プラズマ材料プロセス／希薄気体統合シミュレーションツール）を、自社独自で開発し販売しています。またそれに伴う技術受託解析や特殊カスタマイズ、特注ソフトウェア開発も行います。 ＰＥＧＡＳＵＳは、真空中での粒子挙動、プラズマ挙動、デポジション／エッチング挙動などを解析でき、これは、半導体、ディスプレー、光学、電気、電子、ＩＴそして環境関連産業などの分野で利用される、蒸着、ＣＶＤ、スパッタ、イオンプレーティング、ドライエッチングそして表面改質などの薄膜技術の製品開発をおこなう技術者／研究者にとって 『装置の設計・開発・改良・評価』 『材料、デバイスの開発・製造』 『プロセス技術の予測・開発・改良』 の効率化、実験及び試作コストの軽減を目的とした支援シミュレーションソフトウェアとなります。
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