高加速電圧100ｋVの高精度タイプからSEM機能も有するユニバーサルタイプの電子線描画装置をラインナップ、各種ニーズに対応可能
Raith社のEBPGシリーズは、少量生産対応の高速高精度な電子線描画装置で、WWで納入実績は130台以上
EBPGの特徴
●最大電流値350ｎAを有し、業界最速のスループットを実現
●Overlay５nm 以下、Stiting8nm以下で高精度描画可能
●パターンサイズに併せ、描画中にアパチャー自動変更可能で、描画時間短縮
●対応基板サイズ最大8インチ
●量産対応のオートエアロック（最大10ホルダー）
研究開発向け電子線描画装置ラインナップ
●Pioneer Two（EBL-SEM hybrid）50mmｘ50mmまで対応
●eLINE Plus 4”まで対応
●Raith150 Two 8" まで対応
●Voyager （ミニエン付）8”まで対応
基本情報電子線描画装置
ドイツ/ドルトムントに本社を構えるRaith GMBH社の設立は1980年、電子線描画装置を中心としたナノファブリケーションのソリューションを40年以上わたり提供し続けています。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | アプリケーション例： ・化合物半導体 ・オプトエレクトロニクス ・ナノフォトニック ・量子コンピューター ・セキュリティ/ホログラム ・マスク ・他 |
カタログ電子線描画装置
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