• エアベアリングターボコンプレッサーWHシリーズ 製品パンフレット 製品画像

    エアベアリングターボコンプレッサーWHシリーズ 製品パンフレット

    PR世界のオイルフリーコンプレッサー産業のために!想像を超えたターボ技術の…

    当資料は、世界最高レベルのエネルギー効率の「エアベアリング ターボコンプレッサーWHシリーズ」を掲載しております。 スマートターボコンプレッサー「WH-iシリーズ」や防爆ターボ コンプレッサー「WH-exシリーズ」など様々なシリーズをご紹介。 また、エネルギーコスト節約や多段圧縮、優秀さの核心などの解説 も掲載しており、導入検討の際に参考にしやすい一冊となっております。 【...

    メーカー・取り扱い企業: コーワ商事株式会社

  • AXELENT フロアバリア 製品画像

    AXELENT フロアバリア

    PR【安全対策】工場・倉庫内の安全性向上に大活躍!足元の低い位置で発生する…

    アクセレントのX-Protect(エックス・プロテクト)衝撃保護システムに、フロアバリアが登場! 単体での設置も、同シリーズの他の製品と組み合わせての設置も、どちらも可能です。 X-Protectシリーズの組立はとても簡単! 支柱の間にレールをスライドさせるだけで、最低限の工具での設置が可能です。 またレイアウト変更や拡張が必要な際にも、モジュラー設計により、既存の構成を簡単に変更する...

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    メーカー・取り扱い企業: アクセレントジャパン株式会社

  • レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ 製品画像

    レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

    高速高解像度レーザー露光装置

    。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパターンをレジスト上に再現する技術です。 『DWL 2000 GS』シリーズは最大描画エリアが200x200mm²もしくは400x400mm²あり、MEMS、BioMEMS、Micro-Optics、ASIC、Micro Fluidics、センサー、ホログラム、および微細...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • 高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』 製品画像

    高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ

    高速パターン・ジェネレータ

    『VPG+シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。 半導体、ディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケー...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • 半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ 製品画像

    半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

    高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

    『ULTRA』は、半導体用マスク作成に適した、高速高解像度レーザー描画装置です。 『ULTRA』高生産性、高精度性、高均一性、超高精度位置合わせ精度を備えるコスト性の良いマスク描画装置です。...【基本性能】 ■最小図形寸法: 500nm ■描画速度: 580mm2/分(FXモード時)、325mm2/分(QXモード) ■ラインエッジラフネス:20nm(QXモード) ■CD均一性:30...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

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