スパッタリング | イプロスものづくり

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社

オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池やバッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や表面保護のためのコーティングにも対応。サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

スパッタリングの基礎知識

【技術資料を無料進呈】緻密で硬質な成膜が可能！自動車のミラーなどの生産…

フィルムやガラスの基材の表面に薄膜を形成する手法には、塗布、印刷、めっき、蒸着などがありますが、金属やセラミックで構成されるナノレベルの薄膜を精度高く形成するために使われるのが「スパッタリング」という技術です。実際のスパッタリングにおいて「石」の役割を果たすのが、真空の容器（真空チャンバー）内に充填されたアルゴン（Ar）などの不活性ガスです。 スパッタリングでは真...

メーカー・取り扱い企業：デクセリアルズ株式会社

【英文市場調査レポート】スパッタリング装置の世界市場

『無料サンプル』進呈中！【PDFダウンロード】ボタンからお申し込み方法…

スパッタリングは、表面または基板上に材料の薄膜を堆積させるために利用される技術と定義することができます。 スパッタリング装置は、集積回路製造プロセスやウエハー製造において、基板上に異なる材料の薄膜を堆積させるために使用されます。スパッタリングには、マグネトロンスパッタリング、リアクティブスパッタリング、コスパッタリングがあります。Otは、半導体産業において、集積回路加工における様々な材料の薄膜を成膜す...

メーカー・取り扱い企業：株式会社グローバルインフォメーション

【エッチング、スパッタリングの冷却水温調】チラーPCUシリーズ

アピステのチラーはノンフロン・高耐久・超ワイドレンジの3シリーズ展開！…

【エッチング、スパッタリングの冷却水温調】基板冷却のプレートや真空チャンバ内の冷却水の温度と流量、吐出圧力を一定に保ちます。ーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーー【選べる3シリーズのチラ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アピステ

【市場調査レポート】純金属スパッタリングターゲット材料の世界市場

Global Pure Metal Sputtering Target…

世界の純金属スパッタリングターゲット材料市場の収益は、2021年に20億4、000万米ドル、2022年末には21億5、000万米ドル、2028年には24億3、000万米ドルに達する見通しです。また、2022年から2...

メーカー・取り扱い企業：株式会社グローバルインフォメーション

【調査資料】銅スパッタリングターゲットの世界市場

銅スパッタリングターゲットの世界市場：低純度銅スパッタリングターゲット…

本調査レポート（Global Copper Sputtering Target Market）は、銅スパッタリングターゲットのグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界の銅スパッタリングターゲット市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要...