ギ酸還元対応　卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

PR課題解決事例を進呈中！ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ（還元方式）・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

FOUP洗浄装置

PR特殊な高圧ノズルを使用し、ケミカル未使用で洗浄及び乾燥が可能な装置です

【環境負荷低減】 ・洗浄液は純水のみ使用 ・他社製品に比べ純水の使用量が少ない 【高い洗浄能力】 ・独自の洗浄処理で残渣とパーティクルの洗浄が可能 ・温風を瞬時に発生可能（常温→65℃まで3秒）　 ・FOUP BOXと蓋を別々に洗浄することが可能 ・瞬間加熱式の採用で頑固な接着剤や粒子を迅速に洗浄可能 ・高圧洗浄によりレジストなどの高い付着力を持つ汚染物の除去が可能 *Max 約10MPa（15...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

ＯＢＬＦ社製　発光分光分析装置　ＧＳ１０００－II

独クラフツマンシップの中から誕生した高性能発光分光分析装置

ＧＳ１０００－IIはＯＢＬＦ社製分析装置の中で最も小型なシングルマトリックス専用の装置です。 高精度な分析が、簡単な操作および僅かな日常メンテナンスのみにより実現できます。 大量生産方式では決して得ることのできない高精度と抜群の安定性の達成で各国主要企業において採用されています。 詳細につきましては別途ご連絡下さい。 ...【特徴】 ・光学系：焦点距離５００ｍｍのパッシェンル...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンマシナリー株式会社

OBLF社製　発光分析装置　QSN750-II

世界最高の精度と安定性をもつ発光分析装置

QSN750-IIは750mmの真空光学系をもつマルチマトリックス対応型の装置です。幾多の改良が加えられた現在でも、1/2インチ径の光電子増倍管、カールツァイス製凹面回折格子、といった伝統ともいえる構成と、焦点距離750ｍｍが変わることなく引き継がれています。 詳細につきましては別途ご連絡ください。 ...【特徴】 ・光学系：焦点距離750mmのパッシェンルンゲマウンティング ・真空チャン...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンマシナリー株式会社