三明MEMS【露光装置/マスクアライナー/ローコスト】シリーズ

PR研究開発から、小LOT多品種、量産まで対応する「手動・半自動・全自動」…

　株式会社三明では、コンパクトな微細露光のスタンダード機「LAシリーズ片面マスクアライナー」や、 両面プロセスのローコストアシストモデル「BAシリーズ正面マスクアライナー」、両面・多面プロセスの スタンダード量産機である「BSシリーズ両面同時露光マスクアライナー」といった手動型の露光機をはじめ、 小ロット多品種から量産まで対応した半自動の「セミオートマスクアライナー」や全自動の「フルオートマ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三明 本社／静岡市、支店／東京・沼津・中部・大阪、営業所／横浜・北関東・山形・名古屋・北陸・長野・八戸

【連続生産構築のキーファクター 】ろ過と乾燥の連続化

PRろ過・乾燥は連続生産構築のキーファクター！その理由と連続生産設備iFa…

医薬品の原体や中間体、半導体原料などの機能性化学品の分野において、 固形物を含む製品の生産プロセス構築に欠かせない【晶析～充填】の工程の中でも、特に『ろ過』『乾燥』は連続生産の実用化が進んでいない部分でした。 本資料では、今まで明確になっていなかったろ過・乾燥の連続生産実用化を阻む理由と、 連続生産設備iFactoryにおける実用化方法を、図・イラストを用いて分かりやすくご紹介します！ ...

メーカー・取り扱い企業： 三菱化工機株式会社　産業機械

フォトレジストの研究開発用露光ツール　

フォトプロセス解析用露光装置シリーズ

ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えて オープン・フレーム露光が可能 ■露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて 現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速 ■その他機能や詳細については、カタログダウンロード　 もしくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズ

最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能。

ルです。ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能です。露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速します。さらに、オプションの脱ガス捕集ユニットを用いることにより、露光中のレジストからのアウトガスの成分分析が可能となります。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

自動レジスト塗布・現像・ベーク装置LITHOTRACシリーズ

塗布ユニット/現象ユニット搭載。2''～8''ウェーハの簡易切換え可。…

自動レジスト塗布・現像・ベーク装置LITHOTRACシリーズは弊社独自に、研究開発用途から量産用途まで、ウエーハ製造プロセスのあらゆる部門に適応可能な装置開発を進めてきたレジスト塗布・現像・ベーク装置です。お客様のご要望に適応した自由度の高い設計に努め、もはや仕様のカスタマイズは特別注文ではないという設計思想が、多くのお客様からご好評をいただいております。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社