• AR(拡張現実)用ガラスウエハー RealView(R) 製品画像

    AR(拡張現実)用ガラスウエハー RealView(R)

    PRSCHOTT RealView(R)はAR(拡張現実)向けに開発された…

    SCHOTT RealView(R) は、拡張現実(Augmented Reality)向けに開発されたガラスウエハーです。拡張現実技術は、仕事中や休暇中、そしてコミュニケーションの仕方まで、私たちの日常生活を変えることが期待されています。 ショットは材料メーカーとして、高い視野角と画質を可能にするRealView(R)を提案します。...【製品特性】 ・厚みを最小限に抑えることで、材料強度を...

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    メーカー・取り扱い企業: ショット日本株式会社

  • オーダーメイド型スパッタリング成膜装置 製品画像

    オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

    PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも!非常に幅広い基板サイズに対応可能

    当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

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    メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

  • フォトレジストの研究開発用露光ツール  製品画像

    フォトレジストの研究開発用露光ツール 

    フォトプロセス解析用露光装置シリーズ

    ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えて オープン・フレーム露光が可能 ■露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて 現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速 ■その他機能や詳細については、カタログダウンロード  もしくはお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: リソテックジャパン株式会社

  • フォトプロセス解析露光装置 UVESシリーズ 製品画像

    フォトプロセス解析露光装置 UVESシリーズ

    最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能。

    ルです。ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能です。露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速します。さらに、オプションの脱ガス捕集ユニットを用いることにより、露光中のレジストからのアウトガスの成分分析が可能となります。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

    メーカー・取り扱い企業: リソテックジャパン株式会社

  • 自動レジスト塗布・現像・ベーク装置LITHOTRACシリーズ 製品画像

    自動レジスト塗布・現像・ベーク装置LITHOTRACシリーズ

    塗布ユニット/現象ユニット搭載。2''~8''ウェーハの簡易切換え可。…

    自動レジスト塗布・現像・ベーク装置LITHOTRACシリーズは弊社独自に、研究開発用途から量産用途まで、ウエーハ製造プロセスのあらゆる部門に適応可能な装置開発を進めてきたレジスト塗布・現像・ベーク装置です。お客様のご要望に適応した自由度の高い設計に努め、もはや仕様のカスタマイズは特別注文ではないという設計思想が、多くのお客様からご好評をいただいております。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧...

    メーカー・取り扱い企業: リソテックジャパン株式会社

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