• 【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220) 製品画像

    【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)

    PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-

    書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか!   新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会

  • 【6月東京開催】『機械要素技術展』出展製品のご案内 製品画像

    【6月東京開催】『機械要素技術展』出展製品のご案内

    PR半導体向け樹脂素材、ポリイミド、異形レール、ガイドレール素材、断熱板等…

    弊社は東京ビッグサイトにて6月19日(水)より開催されます、機械要素技術展に弊社ブースを出展する運びとなりました。 是非展示会場にて弊社製品をご覧頂きたく、招待券をお送り致します。 ◉ 機械要素技術展 来場登録用URL >> https://x.gd/HVvyn ◉ 機械要素技術展御案内伏 >> https://x.gd/pBQt9 弊社ブースの小間番号や商談予約フォー...

    メーカー・取り扱い企業: ロシュリングインダストリアルジャパン株式会社

  • FOG INS ±400°/s バイアス安定性≤0.03°/h 製品画像

    FOG INS ±400°/s バイアス安定性≤0.03°/h

    検出範囲 ±400°/s、バイアス安定性 ≤0.03°/h、加速度計、…

    134 x 116 x 126 (mm), <1kg (INS912-3B) 動作温度範囲:-40°C ~ 60°C 開発・製造:I-NAV Technology社(深圳市天陸海導航設備技術有限公司)...

    • 912-3A_1697092208.png
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    メーカー・取り扱い企業: カンタム・ウシカタ株式会社

  • FOG & MEMS INS Z軸バイアス安定性≤0.03°/h 製品画像

    FOG & MEMS INS Z軸バイアス安定性≤0.03°/h

    X/Y軸 MEMS、Z軸 FOG、加速度計、GNSS付き 小型軽量 …

    ・農機の無人運転、モバイルマッピング、地下駐車場・トンネル・その他衛星信号が届かない地下でのナビゲーションシステムに最適です。 開発・製造:I-NAV Technology社(深圳市天陸海導航設備技術有限公司)...

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    メーカー・取り扱い企業: カンタム・ウシカタ株式会社

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