水素フリーDLC（ta-C）『TETRAスリック』

PR難加工材用の切削工具、半導体向けの極細切削工具などの高硬度化・長寿命化…

水素フリーDLC（ta-C）『TETRAスリック』は、 高硬度で優れた耐摩耗性を実現するコーティングです。 薄膜仕様のため、厳しい精度が求められる加工物に適しています。 高い密着性で長寿命化が実現できるほか、耐熱特性に優れているのも特長です。 【用途例】 ■アルミニウムやチタン等の難加工材用切削工具・極細ドリルなど ■精密金型（半導体封止モールド用金型・レンズ成形・曲げ型・樹脂...

メーカー・取り扱い企業： 日本コーティングセンター（ＪＣＣ）株式会社

水素バーナーろう付装置

PR水素を作り出すために使用するのは、水と電気だけ！環境への悪影響はありま…

当社で取り扱っている『水素ガスジェネレーター』についてご紹介いたします。 水素と酸素は自動的にジェネレータータンク内で混ぜられるため、炎の品質は 常に安定。炎は中性で濃縮されているため、熱は局所化され分散せず、対象物や その近くにある構成物が過熱する恐れがありません。 大型変圧器に適しているサイズの「30.000 HD」をはじめ、「20.000 HD」、 「10.000 HD」、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社進和 ジョイテックセンター

リニアイオンソース『LION』

頑丈でスケーリング可能な設計！高エネルギーで強く集束されたビーム

『LION』は前処理と表面改質に適したコンポーネントです。 アルゴン処理で炭化水素を除去し、必要なら酸素追加が可能。イオンビームは 強く収束され、高エネルギー化しています。 物理的エッチングを必要とするインライン製膜システムに理想的なデバイスで、 シンプルで頑丈な設計の...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社

表面処理装置　スパッタ用イオン銃　「40C1型」

表面処理装置　スパッタ用イオン銃

【特徴】 ◯取付フランジは外径70mmで、容易に装着が可能 ◯真空内のソース長は標準の63mmのほか、要望対応も可能 ◯酸素、水素、ハイドロカーボンのような活性ガスの導入も可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノポート

小型ECR原子ビーム源『ERS-35』

メタルコンタミフリーの誘電体ライニング！超高真空装置に対応できる小型E…

子ビーム源(ラジカル源)です。 完全メタルシールにより超高真空装置に対応。 取り扱いが容易な同軸ケーブル給電です。 MBE装置の窒素／酸素ラジカル源や表面クリーニングのための 原子状水素源に応用できます。 【特長】 ■完全メタルシールにより超高真空装置に対応 ■取り扱いが容易な同軸ケーブル給電 ■メタルコンタミフリーの誘電体ライニング ■ラジカルビームの発生に優れた、...

メーカー・取り扱い企業： ノベリオンシステムズ株式会社

表面処理装置　走査型イオン銃　「40E1型」

表面処理装置　走査型イオン銃

【特徴】 ◯フルソフトウェア動作 ◯２段の差動排気 ◯酸素、水素、ハイドロカーボンのような活性ガスに対しても使用可能 ◯超高真空下でイオン銃の操作が可能 ◯ウィンマスフィルターの装着が可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノポート