フッ素系溶剤で精密洗浄とランニングコスト削減を実現する洗浄装置

PRパーティクル除去性能と溶剤の低消耗の2つの機能を兼ね備えたフッ素系真空…

真空超音波洗浄装置「SAUBER/ザウバー」は、パーティクル除去に特化し、 精密洗浄に有効な多くの機能を搭載しながら溶剤の低消耗を実現する1槽式真空密閉型洗浄装置です。 従来から純水洗浄で行われているパーティクル除去・除塵洗浄をフッ素系溶剤洗浄で行うことが可能です。 純水と比べるとフッ素溶剤は排水が出ないクローズドシステムですので、工場側排水設備への負荷がありません。 また、液の再生利用も容易...

メーカー・取り扱い企業： 富士ハイテック株式会社

温度制御システムタンク『RKMH シリーズ』（加圧・真空タイプ）

PR撹拌真空、圧送、温度制御を1台で！加熱撹拌、真空脱泡、加熱などの用途で…

電熱線の内蔵されたマントルヒーターをタンクに取り付け タンクを直接加熱しPID制御にて温度制御を行います。 温度制御は温度制御コントローラーにて調整可能です。 撹拌粘度、撹拌目的に応じて撹拌機・撹拌羽根を設計、製造します。 また、10L以外の容量も製作可能です。その他、ご要望に合わせてオーダーメイド製作致します。常圧仕様もお取り扱いしております。 詳しくはお...

メーカー・取り扱い企業： 加藤ステンレス科学株式会社

PLAD-250E PLDシステム

PLAD-250E PLDシステム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームア...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-161 PLDシステム

PLAD-161 PLDシステム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームア...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

エキシマレーザパルス蒸着システム

エキシマレーザパルス蒸着システム

AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームア...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

有機EL用成膜装置

有機材料と金属材料が同部屋にて成膜可能なハイブリット型成膜装置です。有…

有機材料成膜用の有機蒸着セル（KOD-Cell）が8台、金属材料蒸着の際には、金属蒸着セルが同部屋に標準装備されます。有機用、金属用と共通して少量サイズのルツボにて構成されており、装置チャンバー内に極力チャンバー汚染をしない事に重点を置いた設計になっております。また、グローブボックスへ接続可能なシステムです。本システムは、有機材料と金属材料が同じ部屋にて成膜可能なハイブリット型蒸着装置となります。...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

有機EL用成膜装置

有機EL用のインライン型の自動制御機能を盛り込んだ研究開発用装置です。

有機材料（有機EL）成膜用の有機蒸着セル（KOD-Cell）が8台、金属材料蒸着の際には、金属蒸着セルが標準装備されます。有機用、金属用と共通して少量サイズのルツボにて構成されており、装置チャンバー内に極力チャンバー汚染をしない事に重点を置いた設計になっております。本システムは、全自動式である為、多種多様な研究が行える多目的研究開発用装置となります。...【特徴】 ・有機材料と金属材料とのコンタ...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

脱脂洗浄機（コ・ソルベント方式）

洗浄溶剤を常に再生・再利用！高い洗浄精度と溶剤消耗量の削減を実現する洗…

2種類の洗浄溶剤で洗浄と乾燥を行うコ・ソルベント方式。炭化水素系洗浄溶剤（HC溶剤）で洗浄し、HFE/HFC溶剤（リンス溶剤）でリンス・乾燥する洗浄システムです。HC溶剤中で溶解された汚れはHC真空蒸留機で蒸留再生され装置外へとたされます。リンス溶剤に持ち込まれたHC溶剤は溶剤分離装置を経て、HC溶剤とリンス溶剤は其々の洗浄槽に戻され、再利用されます。 表面張力の大きいHC溶剤で洗浄し、表面張力...

メーカー・取り扱い企業： 大川興産株式会社