• リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

    • S500-on-customer-site.jpg
    • PQL PIC.jpg
    • 20170928_160044.jpg
    • PlasmaQuest-HiTUS-Difference-1.png

    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 公自転式撹拌脱泡装置『カクハンター SK-1100TV III』 製品画像

    公自転式撹拌脱泡装置『カクハンター SK-1100TV III』

    PR中型量産モデルがパワーアップして新登場。真空減圧機能を搭載し、微細な気…

    『カクハンター SK-1100TV III』は、材料の撹拌・脱泡を同時に行える装置です。 真空減圧機能を搭載しており、真空引きをしながら遠心脱泡が行えるため 除去が困難なサブミクロンレベルの泡まで脱泡処理することが可能。 高粘度材料にも対応できるほか、公転・自転の比率を 可変することができ、材料や条件に合わせた処理が行えます。 【特長】 ■回転数大幅UPによる強力撹拌  当社従来機との比較で...

    • s1.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社写真化学 草津事業所

  • 石英・石原ケミカル株式会社 製品画像

    石英・石原ケミカル株式会社

    ・半導体装置用部材、熱処理装置部材に!

    ・石原ケミカルではセラミックス加工での実績のもと、高品質の加工品を短納期で提供します。 ...・光透過性に優れ、低熱膨張、高純度など多くの優れた特性をもつ素材です。 ・ ◎より詳しい掲載内容につきましては、直接お問い合わせください。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 石原ケミカル株式会社 高機能材料

1〜1 件 / 全 1 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • icadtechnicalfair7th_1_pre2.jpg

PR