小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D39...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

CVD-SiC（化学蒸着法）「SiC製品」

SiC成膜技術で未来をひらく！独自の化学蒸着法で製作されたSiC製品

独自の CVD - SiC（ 化学蒸着法）で製作されたアドマップの SiC 製品は、 超高純度・高耐食性・高耐酸化性・高耐熱性・高耐摩耗性の特性を備えています。 半導体をはじめ、産業機械、原子力、航空宇宙分野など、 あらゆるフィールドで高い評価を得ております。 【特長】 ○塩酸・硫酸・硝酸・弗酸・弗硝酸などの酸ではほとんど腐食しない ○表面には二酸化ケイ素（SiO2）被膜が形成...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フェローテックホールディングス

CVD-SiC（化学蒸着法）「ソリューション」

ベストソリューションを提供！独自技術を中心としたソリューション

独自のCVD-SiC技術を中心に、 分析力・解析力・設計力を掛け合わせ、構想の初期段階から参画し、 ベストソリューションを提供いたします。 【提案例】 ○超高温アニール装置用大型部材開発（ボート、ホルダ、ノズル） ○狭ピッチ膜単カセットボート開発 ○超高純度SiCパウダー原料 ○次世代ウェハ対応部材 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【O...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フェローテックホールディングス

CVD-SiC（化学蒸着法）「膜単体製造技術」

厳しい環境下で多数の実績！適応可能が幅広い膜単体製造技術

コーティング技術を応用し、緻密なSiC膜のみで構成された製品を提供いたします。 平板をはじめ、複雑形状まで幅広く適応可能です。 半導体製造装置を中心に、超高温やプラズマの厳しい環境下での数多くの実績があります。 【製造工程(例)】 １．黒鉛基材を円板状に加工 ２．全面にCVD-SiCコーティング ３．外周加工により基材を露出 ４．高温酸化雰囲気中で基材除去 ５．2枚の膜単体円板...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フェローテックホールディングス

CVD-SiC（化学蒸着法）「SiC製品」

SiC成膜技術で未来をひらく！独自の化学蒸着法で製作されたSiC製品

独自の CVD - SiC（ 化学蒸着法）で製作されたアドマップの SiC 製品は、 超高純度・高耐食性・高耐酸化性・高耐熱性・高耐摩耗性の特性を備えています。 半導体をはじめ、産業機械、原子力、航空宇宙分野など、 あらゆるフィールドで高い評価を得ております。 【特長】 ○塩酸・硫酸・硝酸・弗酸・弗硝酸などの酸ではほとんど腐食しない ○表面には二酸化ケイ素（SiO2）被膜が形成...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フェローテックホールディングス