• 真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』 製品画像

    真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

    PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

    ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • 高圧ジェットで高速レジスト剥離!半導体製造用リフトオフ装置 製品画像

    高圧ジェットで高速レジスト剥離!半導体製造用リフトオフ装置

    PR【超高圧ジェットでメタル&レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

    【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし! ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム (オプション) 超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能! 昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • 4インチラベルプリンタ『PW4NX』 製品画像

    4インチラベルプリンタ『PW4NX』

    従来の4インチモバイルプリンタを圧倒する高速・高品質印字を実現

    『PW4NX』は、従来の4インチモバイルプリンタを圧倒する高速・高品質印字を実現したモバイルラベルプリンタです。 ●高速一括印字  卓上機同等、最大152mm/秒の印字スピードを実現。 ●高品質印字  バッテリー残量が少ない時でも状況に応じた設定で 品質を保...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社カナデン 本社

  • レーザ式基板マーキング装置『ML-PM30C2』 製品画像

    レーザ式基板マーキング装置『ML-PM30C2』

    シリアルナンバー、工程管理用の2次元コードや文字をレーザマーカでダイレ…

    三菱電機名古屋製作所内で培った自動化・IT技術を駆使した設備設計・製作により工場の生産性・品質性向上をサポートします。 ●プリント基板上の任意位置に微細な文字や2次元コード、図形を高速にマーキングします。 ●スタンプ方式に比べ、印字品質が安定します。 ●印字データは、サーバーでの一元管理が可能です。 ●レーザユニットメーカーと連携し、印字データ管理コマンドを開発...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社カナデン 本社

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