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【セラミックヒーター】窒化アルミ製 ワトローウルトラミック(R)
PRセラミックの中でも抜群の高熱伝導率性を有する窒化アルミ基板と特殊な発熱…
ワトローウルトラミック(R)は、半導体や電気自動車(EV) 等の開発において、好適なパフォーマンスを提供する窒化アルミヒーターです。 高い熱伝導性、急速な温度変化への対応能力、高温時でも安定した電気的特性、そして正確な温度制御が可能な熱電対内蔵構造を持つ当ヒーターは、高度な熱処理ニーズに応えます。 【特長】 ○熱伝導性の高い窒化アルミ基板を採用 ○急速昇温(最大150℃/sec)・急速降温に対応...
メーカー・取り扱い企業: 坂口電熱株式会社
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PRバイオマス由来の潜熱蓄熱物質を内包したマイクロカプセルで、熱のタイムシ…
樹脂製のシェルで潜熱蓄熱物質をマイクロカプセル化した材料です。 ・良好な取り扱い性;潜熱蓄熱物質が液化しても漏れません! ・アルデヒド非発生;非メラミン樹脂でカプセル化しています! ・SDGs;自然熱や排熱利用ができ、また潜熱蓄熱物質はバイオマス由来です。 詳しくはPDF資料をご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。 無償サンプルを準備しております。...蓄熱カプセル基本特性 ...
メーカー・取り扱い企業: 根上工業株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
全自動運転(手動も可能)〜Windows PCでデータロギングができます。 【主な仕様】 ・RF/DCマグネトロン方式 ・2inchマグネトロンカソードx3源(標準1源) ・RF電源:150W 自動マッチング ・DC電源:850W ・対応基板サイズ2inch、4inch ・基板回転・上下昇降・加熱(500℃)オプション ・プロセスガス制御:MFC x 1(Ar標準、最大3系統...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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FHR Star.100-Tetra CoはMEMSや高機能光学製品向…
EMS製品や高機能光学製品製造 寸法 (L×W×H): 2.3 m× 1.3 m × 2.1 m 重量(ロードロック付の場合) :1,700 - 2,000 kg 最大基板サイズ: 直径150 mm 最大基板キャリア:直径220 mm 対応プロセスガス: アルゴン、酸素、 その他 詳細はお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
ャンバー:SUS304 UHV対応、500 x 500 x500mm ・到達真空度:5 x 10-5pascal ・スパッタカソード:Φ2"(最大6)、Φ3"(最大4) ・プラズマ電源:RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」
膜厚分布:トレー内 ±1.2%、トレー間 ±1.5%を達成しました。
0×10^-3Pa以下 SP室 1.0×10^-3Pa以下 ○排気時間 仕込室 2.0×10^-2Pa迄 3分以内 SP室 1.2×10^-2Pa迄 10分以内 ○基板加熱温度 150℃以上を確認 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空
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射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES
樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能!
【仕様】 ○最大基板寸法 W180×L340×D150mm ○基板材質 PC, PET, PP, PE 等 ○スパッタレート:10nm/sec ○排気速度 0.1paまで30sec ○排気系 RP+TMP ○生産サイクルタイム:基板投入から...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
PC用付属ソフト(IntelliLink)で装置モニター、データロギングができます。 【主な仕様】 ・RF/DCマグネトロン方式 ・2inchマグネトロンカソードx最大3 ・RF電源:150W 自動マッチング ・DC電源:850W ・対応基板サイズ:〜4inch ・基板回転・上下昇降・加熱(500℃) ・プロセスガス制御:MFC x 1(Ar標準、最大3系統増設:N2, O2...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
ャンバー:SUS304 UHV対応、500 x 500 x500mm ・到達真空度:5 x 10-5pascal ・スパッタカソード:Φ2"(最大6)、Φ3"(最大4) ・プラズマ電源:RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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