MAZAK INTEGREX i-200H 新規導入

PR【複合加工・自動化に好適】

竹沢精機は、新たなターニングセンタを導入しました。 同時5軸制御の為、複合的な機械加工及び自動化に対応可能です。 ...・型式　　：　INTEGREX　i-200H 590µ　（MAZAK 製） ・スペック：　φ600 x 590 (同時5軸）　 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社竹沢精機

一酸化ケイ素（SiO）塊・粉末

PRサブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…

当社は、リチウムイオン電池（LiB）負極材料などとして活用可能な 『一酸化ケイ素（SiO）』を提供しています。 粉末状（1～100μm）、粒状（1～5mm）、塊状（50～200mm）に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8％、5μmの粉末でSiO純度99.9％などの製品事例があります。 【特長】 ■製造方法：結晶化学気相成長法 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

高速成膜ALD装置『FHR.STAR-400x300SALD』　

In-Situのエリプソメーターや透過型分光器に対応！独FHR社製高速…

『FHR.STAR-400x300SALD』は、200mmウェハあるいは 400x300mmまでの基板やテキスタイルの成膜に対応した 高速成膜ALD（Spacial ALD）装置です。 400x300の基板では10mm厚迄の3次元形状への均...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

スパッタリング装置『Star.500-EOSS(R)』

光学用の多層膜を高均一かつ再現性に優れた成膜を行う事を目的に開発！

『Star.500-EOSS(R)』は、光学フィルター成膜用として設計された マグネトロンスパッタシステムです。 成膜用のパーティクルを最小限にするためスパッタアップの方式を採用。 200mm径までのフラット並びに曲面の基板まで対応しており、 基板加熱機構も組み込みできます。 【特長とメリット】 ■傑出した光学多層膜の再現性 ■優れた膜厚均一性 ■シリンダー型スパッタ...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

リモートイオンソース型 HR-PVDスパッタリングモジュール

指向性成膜を実現し、リアクティブスパッタリングも可能な高イオン電流ヘリ…

・200mmウェハまで対応可能 ・AVP Technology社独自の制御システムへの変更で中古クラスター装置への搭載も可能です。また、他のPVDやエッチングモジュールとの併用も可能です。 ＊詳細...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社