卓上CMP研磨機『EJ-380IN-CH-D』

PRコンパクト設計のCMP研磨機。研究開発にお勧めです！

卓上CMP研磨機『EJ-380IN-CH-D』は、コンパクトなボディで設置場所を省スペースに抑えます。試料片研磨加工や多種少量部品の研磨等の研究開発用途だけでなく、本格的な精密研磨加工まで幅広いニーズに対応できる卓上ラップ装置です。 ＜特徴＞ ・精密鏡面加工の自動化 ・耐薬品性に優れたボディ設計 【使用可能定盤外径 : Φ380 mm】 また、本装置を2024年10月2日...

メーカー・取り扱い企業： 日本エンギス株式会社

【2024日韓ビジネスパートナーシッププラザ】商談会開催のご案内

PR優秀な韓国企業（工場自動化・物流効率化製品、新エネルギー、半導体、産業…

日本内で起きている韓流の拡散、両国の政府による関係回復のための努力などを機に、日韓両国間におけるビジネスに対する機会や需要が増えている現状であります。 そこで、「2024日韓ビジネスパートナーシッププラザ」を以下の通り開催する運びとなりました。 韓国企業と日本企業の更なるパートナシップを結ぶ場としてご活用いただければ幸いです。 1. 名　　称 : 2024日韓ビジネスパートナーシッププラザ 2....

メーカー・取り扱い企業： 大韓貿易投資振興公社(KOTRA)

低温レジスト剥離装置『AURORA（オーロラ）』

薬液洗浄工程をなくすことでウエットベンチの設置面積を削減可能！

『AURORA（オーロラ）』は、イオン注入後のレジスト剥離が出来る 低温レジスト剥離装置です。 プラズマ処理とオゾン水処理を組み合わせることで残渣なしで剥離できるほか、 下地膜（Si、SiO2など）を膜べりなしでの剥離にも対応します。 また、硫酸過水、アンモニア過水等の薬液洗浄工程をなくすことで、 ランニングコストおよび工程数を削除可能。 速い除去レート(2～4μm/min)に...

メーカー・取り扱い企業： HUGパワー株式会社

蒸気洗浄装置『ASTE（アステ）』

金属汚染のない半導体用の洗浄装置！単式蒸気噴射音速ノズル搭載

『ASTE（アステ）』は、エッチング後のポリマ除去や、 ウエハ上の異物除去 （ブラシスクラバの置換え）が出来る、 金属汚染のない蒸気2流体洗浄装置です。 高価なアミン系剥離剤等の薬液を使わずにポリマと レジストを同時に除去できるので大幅なコスト低減が期待できます。 原料は「水」なので、環境にやさしい洗浄装置です。 【特長】 ■コスト低減 ■工程数削減 ■環境負荷低減 ...

メーカー・取り扱い企業： HUGパワー株式会社

蒸気洗浄装置『VALIUS（バリウス）』

レジスト・ペースト除去ができる太陽電池用の洗浄装置！超高速処理が可能

『VALIUS（バリウス）』は、レジスト・ペースト除去が出来る、 多連式超音速ノズル搭載の蒸気2流体洗浄装置です。 高価な薬液を必要としないため、コスト低減に繋がるほか、 コンパクトな設置面積（本体）を実現しています。 連続処理で500枚／時以上の超高速処理が可能。 原料は「水」なので、化学薬品の使用量を大幅に低減することが できる環境にやさしい装置です。 【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業： HUGパワー株式会社

蒸気洗浄装置『BEUGA（ビューガ）』

金リフトオフ工程で95％以上の回収率でコスト低減！LED用の洗浄装置

『BEUGA（ビューガ）』は、金リフトオフ、レジスト剥離ができる、 多連式超音速ノズル搭載の蒸気2流体洗浄装置です。 高価な薬液を必要としないため、コスト低減に繋がるほか、 金リフトオフ工程では95％以上の金回収率が可能です。 原料は「水」なので、化学薬品を削減できるため、 コスト低減、環境付加の軽減にも貢献します。 【特長】 ■コスト低減 ■金回収率向上 ■環境負荷...

メーカー・取り扱い企業： HUGパワー株式会社