リサイクルプラスチックパレット『THEパレット』

PR100％リサイクル材料を使用し、CO2を大幅削減。不要になったパレット…

『THEパレット』は、耐久性に優れたリサイクルパレットです。 リサイクル材を使いCO2の大幅削減を実現しており、環境負荷を低減できます。 輸出時の燻蒸処理が不要になるほか、丈夫で割れ・折れを防ぎ安全に使用可能。 さらに低価格化を実現しており、経済的です。 【特長】 ■100％リサイクル材料を使用 ■海外輸出・国内輸送に適した、安価で高品質のパレット ■重量物にも対応可能な高強...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社太和ホールディング

【液体充填委託事例】200万本/食品添加物アルコール除菌充填工場

PR販売数量200万本/年間の大量生産。食品添加物配合アルコール除菌剤を生…

京都府にある某メーカー様の新製品で食品添加物を配合した除菌剤を発売することになり、しかも販売数量が200万本/年間と大量生産をしなければならない状況で液体充填工場を探しておられました。 弊社には食品添加物製造対応の充填室を完備しており、その中には4連自動充填機を保有しております。 こちらの自動充填機では、ボトル内クリーニング→4本同時充填→ボトルへのロット印字→キャップの締め付け→内容...

メーカー・取り扱い企業： 新日本化学工業株式会社

フッ素樹脂の種類4　ETFE (4フッ化エチレン共重合体)

大東化成では、フッ素樹脂コーティング、フッ素樹脂ライニングを主軸に、さ…

フッ素樹脂コーティング（テフロンコーティング）は耐食性、潤滑性、離型性、純粋性に優れており、家庭用品から工業製品にいたるまで 幅広く利用されております。大東化成の表面処理技術者が、お客様のご要望から適切な表面処理のアドバイスを行います。 ...【製品の特長】 ○代表的なFEP、PFAに匹敵する電気特性、耐薬品性を保持し、改良された機械的特性と容易な加工性を兼ね備えています。 ○フッ素樹脂...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社YMM コーティング事業部

Oリング PTFE (テフロン／4フッ化エチレン樹脂)

Oリングの桜シールは、PTFE（テフロン／4フッ化エチレン樹脂）ほか多…

フッ素樹脂（PTFE）による材質で、耐薬品性や耐熱性、表面潤滑性などに秀でています。テフロンの通称で広く知られており、ゴム材質と比較して弾性や復元性は劣りますが、一定のシール性能を発揮します。桜シール株式会社は、JIS規格による一般的な規格サイズは元より、極小Oリングから大口径リングに至るまでの大小様々なOリングを取り揃え、材質とサイズの両面で適切なOリング選定をサポートさせて頂きます。 ＊ ...

メーカー・取り扱い企業： 桜シール株式会社 日本本社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

VD(APCVD)の特色はそのまま、手軽に成膜が可能す。 ●納入実績 　・国内外半導体デバイス/オプトデバイスメーカー 　・大学/研究機関 ●装置サイズ(mm): 1200mm(W) x 2480mm(D) x 1940mm(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) 　　　　 TEOS/O3系 (TEOS/TMOP/TEB/O3/O2/N2)(...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ピラニ真空計　PG-20

小型なボディで装置組込みの省スペース化！

帯域（1.0×10-1Pa）?（1.0×10　4Pa）の低真空を測定できる、ピラニ真空計です。 熱伝導を圧力に変換して、真空計測を行えます。 （特長） 　●（1.0×10-1Pa）?（1.0×10　4Pa）の測定範囲 　●故障に強い定...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統（CH4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S. ◉ キャパシタンスマノメータ（バラトロンゲージ）による高精度APC圧力制御 ◉ Lab Viewソフトウエ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

定温度型ピラニゲージコントローラ　PG-30

熱伝導を圧力に変換して、真空計測を行えます。

帯域（1.0×10-1Pa）?（1.0×10　4Pa）の低真空を測定できる、ピラニ真空計です。...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

でのウェハに対応し、最大で1時間あたり100枚の成膜が可能です。 また、AMAX800Vのメンテナンス性を更に向上させたAMAX800V2もラインナップしております。 ●装置サイズ(mm): 1460mm(W) x 3830mm(D) x 2250mm(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) ●成膜温度: 350～430℃ ※詳しくはお問い合...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

。 コンパクトな筐体サイズで、隣接設置も可能なので、フットプリントを最小化することができます。 ●装置サイズ(mm): 890(W) x 2300(D) x 2250(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) 　　　　 TEOS/O3系 (TEOS/TMOP/TEB/O3/O2/N2)(オプション) ●成膜温度: 350～450℃ ※詳しく...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

を容易に行える自動交換機能など、メンテナンス性も良好です。 AMAX1200は、12インチまでのウェハに対応し、最大で1時間あたり56枚の成膜が可能です。 ●装置サイズ:2165mm(W) x 4788mm(D) x 2250mm(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) ●成膜温度: 350～430℃ ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタロ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

のため、特殊ウェハホルダー・ランプ加熱機構・多段ベルヌイチャック等を採用しました。 ●装置サイズ(mm): 1860mm(W) x 5900mm(D) x 2100mm(H) ●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2) ●成膜温度: ～430℃ ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

常圧CVD装置「AMAX800V」

優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

【仕様】 ○サイズ：1460mm(W)×3830mm(D)×2250mm(H) ○成膜速度：最大5000Å/min ○パーティクル：サイズ0. 22μm以上の増加量が15個以下 　　　　　　　　(8インチ、CVD成膜...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

液体ソースプラズマCVD装置

小型でスペース効率の優れた装置！基板はφ4インチ対応で、加熱機構・T/…

【構成（一部）】 ■基板寸法：最大φ4インチ ■電極構造：平行平板（デポタウン） ■プラズマ電極 　・外径φ150、シャワー式ガス噴射 　・自動整合器マウント ■基板電極 　・外径φ150 　・ヒーター内蔵式、基板加熱Ma...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

枚葉式常圧CVD装置『A200V』

装置サイズを可能な限りコンパクト化！安定した成膜処理と低パーティクルを…

量生産までカバーするφ150・φ200mm ウェーハ対応の枚葉式常圧CVD装置です。 フェイスダウン式成膜方法の採用により優れた膜厚均一性、パーティクル 制御、埋め込み性能を発揮し、SiH4をベースとしたシリコン酸化膜を成膜。 また、TEOS-O3、SiH4-O3もオプション対応が可能な装置です。 【特長】 ■フェイスダウンポジション ■コンパクトな装置デザイン・構成 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所