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超高画素 2億5000万画素/1億2700万画素 CXPカメラ
PR超高画素カメラによる広視野角・超高精細な撮像が可能で、各種MV用途に好…
Sony社製 CMOSセンサ(Pregius IMX661/3.6型)を搭載した、1億2700万画素のCoaXPressカメラ「VCC-127CXP6」と、Canon社製CMOSセンサ(Ll8020SAM/APS-H型)を搭載した、2億5000万画素のCoaXPressカメラ「VCC-250CXP1」。どちらも超高解像度を誇り、各種外観検査(液晶・基板・半導体ウエハ・建築物等の欠陥/異物/形状)、...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社シーアイエス
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PRベンディング金型60種以上を保有!R曲げ、プレーナー曲げを含めた特殊な…
当社では、小物から大物・長尺までの幅広い板金加工を行っております。 レーザー切断、タレパン、曲げ加工、プレーナー、レーザー溶接と 加工範囲が広く、ワンストップ加工で短納期も対応が可能。 6Mのレーザー切断と曲げ加工もできます。 ステンレス鏡面800番やバイブレーション、両面研磨などの特殊材を 通常在庫しており、板厚は0.8t~12.0t、サイズは6Mまで対応します。 加工事...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エッジ・エンタープライズ
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20年以上の歴史を誇る実績のラインナップ。R&Dから量産までハイエンド…
搬送室を中心としたクラスター型スパッタリング装置。 基板搬送もベア及びトレイ(サセプター)も標準対応。矩形・小径・不定形 多くの基板に積極対応。 最大8インチ及び8インチ相当の矩形基板に対応。6角形タイプと4角形タイプの2機種を標準ラインナップ。 半導体以外の用途にも半導体の性能とクリーンネスを実現。 次世代開発用スパッタリング装置...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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高周波・通信デバイスに多用されるリフトプロセスに対応した専用蒸着装置で…
膜時の基板の温度上昇を 防ぐ各種機構(基板水冷機構、電子銃用反射電子トラップ、輻射光防止対策) により低温蒸着が可能です。 【特長】 ■蒸着粒子の基板への入射角の垂直性(90°±3°at6インチウェハ) ■基板水冷機構による低温蒸着(70℃以下=実績値) ■大口径排気系による高速排気とクリーンなバックグラウンドによる緻密な膜質 ■豊富なオプション類による柔軟なハード&ソフト対応...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現!高品質の電極膜を安定して形…
『ウェハプロセス用真空蒸着装置』は、6インチまでのウェハへの 電極膜形成に対応したバッチタイプ蒸着装置です。 ディスクリートIC、化合物IC、MEMSデバイスの量産用途に 豊富な実績を持っています。膜厚均一性に優れた成膜機構と...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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R&Dやニッチプロセスへの対応に特化 量産用装置では困難な少量生産や試…
8インチまでの標準径ウェハと6インチ□までの矩形基板に対応したフレキシブル対応が特徴。小径ウェハや不定形基板には専用搬送トレイで基板搬送や成膜が可能。 メタル成膜においてはウェハプロセスの配線・電極膜・薄膜磁気デバイスのセンサ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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